WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2002044440) PROCEDE DE DEPOT DE COUCHE ANTI-REFLETS A FROID
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/044440    N° de la demande internationale :    PCT/FR2001/003723
Date de publication : 06.06.2002 Date de dépôt international : 26.11.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    25.06.2002    
CIB :
C23C 14/06 (2006.01), G02B 1/11 (2006.01)
Déposants : ESSILOR INTERNATIONAL [FR/FR]; Compagnie Générale d'Optique, 147, rue de Paris, F-94227 Charenton (FR) (Tous Sauf US).
HELMSTETTER, Yvon [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
BERNHARD, Jean-Daniel [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
ARROUY, Frédéric [FR/FR]; (FR) (US Seulement)
Inventeurs : HELMSTETTER, Yvon; (FR).
BERNHARD, Jean-Daniel; (FR).
ARROUY, Frédéric; (FR)
Mandataire : POCHART, François; Cabinet Hirsch-Pochart, 34, rue de Bassano, F-75008 Paris (FR)
Données relatives à la priorité :
00/15334 28.11.2000 FR
Titre (EN) METHOD FOR COLD PROCESS DEPOSITION OF AN ANTIGLARE LAYER
(FR) PROCEDE DE DEPOT DE COUCHE ANTI-REFLETS A FROID
Abrégé : front page image
(EN)The invention concerns a method for making an antiglare stack by vacuum evaporation on an organic substrate (1) at a temperature lower than 150 °C, comprising steps which consist in depositing at least a layer of material having a refractive index different from that of MgF¿2? (4, 4'), preparing the surface of the thus coated substrate, and depositing an outer MgF¿2? layer (5) without ionic assistance. The resulting antiglare stack on organic substrate exhibits good adherence and good scratch resistance. The invention is applicable to ophthalmic lenses.
(FR)Un procédé de fabrication d'un empilement anti-reflets par évaporation sous vide sur un substrat organique (1) à une température inférieure à 150°C, comportant les étapes de dépôt d'au moins une couche de matériau d'indice de réfraction différent de celui du MgF¿2? (4, 4'), de la préparation de la surface du substrat ainsi revêtu, et du dépôt d'une couche extérieure de MgF¿2? (5) sans assistance ionique. L'empilement anti-reflets sur substrat organique ainsi obtenu présente une bonne adhérence et une bonne résistance aux rayures. Application à la fabrication de lentilles ophtalmiques.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)