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1. (WO2002025723) MESURE DU DECALAGE LATERAL PAR UNE TECHNIQUE OPTIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/025723    N° de la demande internationale :    PCT/IL2001/000884
Date de publication : 28.03.2002 Date de dépôt international : 20.09.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    18.04.2002    
CIB :
H01L 21/66 (2006.01)
Déposants : NOVA MEASURING INSTRUMENTS LTD. [IL/IL]; Weizmann Science Park, P.O.B. 266 76100 Rehovoth (IL) (Tous Sauf US).
BRILL, Boaz [IL/IL]; (IL) (US Seulement).
FINAROV, Moshe [IL/IL]; (IL) (US Seulement).
SCHEINER, David [IL/IL]; (IL) (US Seulement)
Inventeurs : BRILL, Boaz; (IL).
FINAROV, Moshe; (IL).
SCHEINER, David; (IL)
Mandataire : KORSHUNOV, Oleg; Weizmann Science Park, P.O.B. 266 76100 Rehovoth (IL)
Données relatives à la priorité :
138552 19.09.2000 IL
Titre (EN) LATERAL SHIFT MEASUREMENT USING AN OPTICAL TECHNIQUE
(FR) MESURE DU DECALAGE LATERAL PAR UNE TECHNIQUE OPTIQUE
Abrégé : front page image
(EN)The method for controlling layers alignment in a multi-layer sample (10), such a semiconductors wafer based on detecting a diffraction efficiency of radiation diffracted from the patterned structures (12, 14) located one above the other in two different layers of the sample.
(FR)L'invention concerne le procédé permettant de contrôler l'alignement des couches dans un échantillon multicouches (10), par exemple une plaquette à semi-conducteurs, en fonction de la détection d'une efficacité de diffraction du rayonnement diffracté par les structures modelées (12, 14) placées les unes au-dessus des autres en deux couches différentes de l'échantillon.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)