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1. (WO2002025707) PROCEDE ET APPAREIL UTILES POUR ALIGNER DES SUPPORTS ET UNE INSTALLATION DE TRAITEMENT DE SEMI-CONDUCTEURS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/025707    N° de la demande internationale :    PCT/US2001/029852
Date de publication : 28.03.2002 Date de dépôt international : 20.09.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    03.04.2002    
CIB :
H01L 21/68 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; P.O. Box 450A, Santa Clara, CA 95052 (US)
Inventeurs : LAPPEN, Alan, Rick; (US)
Mandataire : BERNADICOU, Michael, A.; Blakely, Sokoloff, Taylor & Zafman LLP, 7th floor, 12400 Wilshire Boulevard, Los Angeles, CA 90025 (US)
Données relatives à la priorité :
09/668,012 21.09.2000 US
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR ALIGNMENT OF CARRIERS AND SEMICONDUCTOR PROCESSING EQUIPMENT
(FR) PROCEDE ET APPAREIL UTILES POUR ALIGNER DES SUPPORTS ET UNE INSTALLATION DE TRAITEMENT DE SEMI-CONDUCTEURS
Abrégé : front page image
(EN)A support and alignment coupling and method are provided in which a support and alignment coupling for aligning a semiconductor substrate carrier to semiconductor processing equipment has a rail-shaped contact portion adapted to be received by a carrier receptacle. As a consequence, alignment between the carrier and the processing equipment may be improved.
(FR)La présente invention concerne un couplage de soutien et d'alignement et un procédé associé dans lequel un couplage de soutien et d'alignement servant à aligner un support de substrat à semi-conducteurs sur une installation de traitement de semi-conducteurs comprend une partie de contact en forme de rail adaptée pour se loger dans un contenant du support. De cette manière, l'alignement entre le support et l'installation de traitement peut être amélioré.
États désignés : JP, KR.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)