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1. (WO2002025258) APPAREIL DE FLUORESCENCE X A REFLEXION TOTALE ET PROCEDE UTILISANT UNE OPTIQUE A COURBURE DOUBLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/025258    N° de la demande internationale :    PCT/US2001/021586
Date de publication : 28.03.2002 Date de dépôt international : 09.07.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    22.04.2002    
CIB :
G01N 23/223 (2006.01)
Déposants : X-RAY OPTICAL SYSTEMS, INC. [US/US]; 30 Corporate Circle Albany, NY 12203 (US)
Inventeurs : CHEN, Zewu; (US)
Mandataire : RADIGAN, Kevin, P.; Heslin Rothenberg Farley & Mesiti P.C. 5 Columbia Circle Albany, NY 12203 (US)
Données relatives à la priorité :
09/667,966 22.09.2000 US
Titre (EN) TOTAL-REFLECTION X-RAY FLUORESCENCE APPARATUS AND METHOD USING A DOUBLY-CURVED OPTIC
(FR) APPAREIL DE FLUORESCENCE X A REFLEXION TOTALE ET PROCEDE UTILISANT UNE OPTIQUE A COURBURE DOUBLE
Abrégé : front page image
(EN)An improved total-reflection x-ray fluorescence (TXRF) apparatus using a doubly-curved optic is presented for use in detecting foreign matter on surfaces, for example, semiconductor wafers. The apparatus includes an x-ray source, a doubly-curved x-ray optic for diffracting and focusing the x-rays, a surface onto which at least some of the diffracted x-rays are directed, and an x-ray detector for detecting resultant x-ray fluorescence emitted by any foreign matter present on the surface. One or more apertures may be provided for limiting the dispersion angle of the x-rays. The crystal or multi-layer doubly-curved optic typically adheres to Bragg's law of x-ray diffraction may be curved to a toroidal, ellipsoidal, spherical, parabolic, hyperbolic, or other doubly-curved shape. An apparatus for diffracting x-rays is also presented. The apparatus includes an x-ray source and image defining an optic circle of radius R, an x-ray optic having a surface of radius R¿P? and a plurality of atomic planes which intersect the surface at an angle $g(a), wherein the radius of the atomic planes R¿P? is defined by the equation R¿P? = 2R cos $g(a). This diffracting apparatus may be used in a TXRF apparatus.
(FR)L'invention concerne un appareil amélioré de fluorescence X à réflexion totale (TXRF) utilisant une optique à courbure double destiné à la détection de matière étrangère sur des surfaces, notamment de tranches semi-conductrices. Cet appareil comprend un source de rayonnement X, une optique pour rayons X à courbure double destinée à diffracter et à focaliser les rayons X, une surface sur laquelle au moins certains des rayons X diffractés sont dirigés, et un détecteur de rayonnement X destiné à détecter la fluorescence X résultante émise par toute matière étrangère présente sur la surface. On peut mettre en oeuvre une ou plusieurs ouvertures afin de limiter la dispersion angulaire des rayons X. Le cristal ou l'optique multicouches à courbure double, qui suit classiquement la loi de Bragg concernant la diffraction du rayonnement X, peut être courbé selon une forme toroïdale, ellipsoïdale, sphérique, parabolique, hyperbolique, ou selon une double courbure obtenue d'une autre façon. L'invention concerne aussi un appareil destiné à diffracter le rayonnement X. Cet appareil comprend un source de rayonnement X et une image définissant un cercle optique de rayon R, une optique pour rayons X dont la surface est de rayon R¿P? avec plusieurs plans atomiques qui coupent la surface à un angle $g(a), le rayon des plans atomiques R¿P?P étant défini par l'équation R¿P?P = 2R cos $g(a). Cet appareil de diffraction peut être utilisé dans un appareil TXRF.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)