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1. (WO2002024601) DIAMANT POLYCRISTALLIN A FORTE DENSITE VOLUMIQUE COMPORTANT UN MATERIAU CATALYSEUR A SURFACES DE TRAVAIL APPAUVRIES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/024601    N° de la demande internationale :    PCT/GB2001/003986
Date de publication : 28.03.2002 Date de dépôt international : 05.09.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    23.03.2002    
CIB :
B22F 7/06 (2006.01), B23B 27/14 (2006.01), C04B 35/52 (2006.01), C04B 37/02 (2006.01), C04B 41/45 (2006.01), C04B 41/53 (2006.01), C04B 41/81 (2006.01), C04B 41/91 (2006.01), E21B 10/00 (2006.01), E21B 10/42 (2006.01), E21B 10/56 (2006.01), E21B 10/60 (2006.01)
Déposants : CAMCO INTERNATIONAL (UK) LIMITED [GB/GB]; Hycalog Oldends Lane Industrial Estate Stonehouse Gloucestershire GL10 3RQ (GB)
Inventeurs : GRIFFIN, Nigel, Dennis; (GB).
HUGHES, Peter, Raymond; (GB)
Mandataire : BAILEY, Richard, Alan; A.R. Davies & Co. 27 Imperial Square Cheltenham GL50 1RQ (GB)
Données relatives à la priorité :
60/234,075 20.09.2000 US
60/281,054 02.04.2001 US
Titre (EN) HIGH VOLUME DENSITY POLYCRYSTALLINE DIAMOND WITH WORKING SURFACES DEPLETED OF CATALYZING MATERIAL
(FR) DIAMANT POLYCRISTALLIN A FORTE DENSITE VOLUMIQUE COMPORTANT UN MATERIAU CATALYSEUR A SURFACES DE TRAVAIL APPAUVRIES
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a polycrystalline diamond or diamond-like element with greatly improved wear resistance without loss of impact strength. These elements are formed with a binder-catalyzing material in a high-temperature, high-pressure (HTHP) process. The PCD element has a body with a plurality of bonded diamond or diamond-like crystals forming a continuous diamond matrix that has a diamond volume density greater than 85 %. Interstices among the diamond crystals form a continuous interstitial matrix containing a catalyzing material. The diamond matrix table is formed and integrally bonded with a metallic substrate containing the catalyzing material during the HTHP process. The diamond matrix body has a working surface, where a portion of the interstitial matrix in the body adjacent to the working surface is substantially free of the catalyzing material, and the remaining interstitial matrix contains the catalyzing material. Typically, less than about 70 % of the body of the diamond matrix table is free of the catalyzing material.
(FR)L'invention concerne un diamant polycristallin ou un élément de type diamant caractérisé par une résistance à l'usure sensiblement améliorée avec maintien de la résistance aux chocs. Ces éléments sont formés à partir d'un matériau de catalyseur de liant selon un processus haute température et haute pression (HTHP). L'élément PCD présente un corps comportant une pluralité de cristaux de diamant ou de type diamant liés, formant une matrice de diamant continue à densité volumique supérieure à 85 %. Les interstices des cristaux de diamant forment une matrice interstitielle continue contenant un matériau catalyseur. Le corps de la matrice de diamant est formé et intégralement lié à un substrat métallique contenant le matériau de catalyseur pendant le processus HTHP. Le corps de la matrice de diamant présente une surface de travail. Une partie de la matrice interstitielle du corps adjacent à cette surface de travail ne contient sensiblement pas de matériau de catalyseur, la matrice interstitielle restante contenant elle un matériau de catalyseur. De manière générale, environ moins de 70 % de l'ensemble de la structure de la matrice en diamant est exempt de matériau de catalyseur.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)