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1. (WO2002024415) TAMPON DE POLISSAGE A MICROSTRUCTURE INTERESSANTE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/024415    N° de la demande internationale :    PCT/US2001/029114
Date de publication : 28.03.2002 Date de dépôt international : 18.09.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    09.04.2002    
CIB :
B24B 37/04 (2012.01), B24D 13/14 (2006.01), B24D 3/00 (2006.01)
Déposants : RODEL HOLDINGS, INC. [US/US]; 1105 North Market Street, Suite 1300, Wilmington, DE 19899 (US)
Inventeurs : PINHEIRO, Barry, Scott; (US).
NAUGLER, Steven; (US)
Mandataire : BENSON, Kenneth, A.; Rodel Holdings, Inc., 1105 North Market Street, Suite 1300, Wilmington, DE 19899 (US).
KITA, Gerald K.; Rodel Holdings, Inc., 1105 North Market Street, Suite 1300, Wilmington, DE 19899 (US)
Données relatives à la priorité :
60/233,747 19.09.2000 US
Titre (EN) POLISHING PAD HAVING AN ADVANTAGEOUS MICRO-TEXTURE
(FR) TAMPON DE POLISSAGE A MICROSTRUCTURE INTERESSANTE
Abrégé : front page image
(EN)A polishing pad has a surface measured by: Land Surface Roughness, Ra, from about 0.01 $g(m)m; Average Peak to Valley Roughness, Rtm, from about 3 $g(m)m to about 40 $g(m)m; Core roughness dept, Rk, from about 1 to about 1 to about 10; Reduced Peak Height, Rvk, from about 0.1 to about 10; and Peak Density expressed as a surface area ratio, R¿SA?, ([Surf. Area/(Area-1)]), of 0.001 to 2.0.
(FR)Un tampon de polissage possède une surface mesurée par les paramètres suivants: rugosité de surface, Ra, comprise entre environ 0,01 $g(m)m et 25$g(m)m, rugosité moyenne de crête à creux, Rtm, comprise entre environ 3 $g(m)m et environ 40 $g(m)m;, profondeur de rugosité du noyau, Rk, comprise entre environ 1 et environ 10, hauteur de crête réduite, Rvk, comprise entre environ 0,1 et environ 10, et densité de crête exprimée sous forme de rapport de zone de surface, R¿SA?, ([zone de surf/(zone-1)]), de 0.001 à 2.0.
États désignés : KR.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)