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1. (WO2002024409) APPAREIL DE POLISSAGE A UNITE DE COMMANDE DE POSITION ELECTROMAGNETIQUE POUR SUPPORT DE TAMPON DE POLISSAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/024409    N° de la demande internationale :    PCT/JP2001/004387
Date de publication : 28.03.2002 Date de dépôt international : 25.05.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    11.01.2002    
CIB :
B24B 37/005 (2012.01), B24B 41/04 (2006.01), B24B 49/10 (2006.01), H01L 21/304 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-Chome Chiyoda-ku, Tokyo 100-1005 (JP)
Inventeurs : HAYASHI, Yutaka; (JP).
UDA, Yutaka; (JP)
Mandataire : HOSOE, Toshiaki; Corpo Fuji 605 3-6, Nishikanagawa 1-Chome, Kanagawa-ku Yokohama-Shi, Kanagawa 221-0822 (JP)
Données relatives à la priorité :
2000-286435 21.09.2000 JP
Titre (EN) POLISHING APPARATUS WITH ELECTROMAGNETICAL ATTITUDE CONTROLLER FOR THE POLISHING PAD CARRIER
(FR) APPAREIL DE POLISSAGE A UNITE DE COMMANDE DE POSITION ELECTROMAGNETIQUE POUR SUPPORT DE TAMPON DE POLISSAGE
Abrégé : front page image
(EN)The CMP apparatus (1) is equipped with an attitude-maintaining means (50) which maintains a polishing member (40) in a fixed attitude with respect to a wafer (W) by applying a corrective moment to the polishing member during the polishing of the wafer (W). This attitude-maintaining means (50) is constructed from a disk-form protruding member (51) which is detachably attached to the outer circumferential portion of a reference plate (41) by engaging with this outer circumferential portion, annular permanent magnets (54,55) which are installed in magnet holding frames (52,53) consisting of two concentric cyclindrical parts that protrude to the outside of a tension flange (31) and extend upward from the outer edge portion of the protruding member (51) a cyclindrical coil holding frame (57) which protrudes outward and extends downward from a moving stage (17) and whose lower end portion is positioned between the permanent magnets (54,55) and four coils (58) that are wound around this coil holding frame (57).
(FR)L'invention concerne un appareil CMP (1) équipé d'un organe de maintien de position (50) assurant le maintien d'un élément de polissage (40) dans une position fixe par rapport à une tranche (W) grâce à l'application d'un moment correctif à l'élément de polissage pendant le polissage de la tranche (W). Cet organe de maintien de position (50) comprend un élément saillant en forme de disque (51) fixé détachable à la partie circonférentielle extérieure d'une plaque de référence (41) par solidarisation avec cette partie circonférentielle, des aimants permanents annulaires (54, 55) installés dans des cadres de fixation d'aimant (52, 53) constitués de deux parties cylindriques concentriques faisant saillie à l'extérieur d'un bord de tension (31) et se prolongeant vers le haut à partir de la partie de bord extérieure de l'élément saillant (51), un cadre de fixation de bobine cylindrique (57) faisant saillie vers l'extérieur et se prolongeant vers le bas à partir d'un étage mobile (17), la partie d'extrémité inférieure dudit cadre étant située entre les aimants permanents (54, 55), et quatre bobines (58) enroulées autour de ce cadre de fixation de bobine (57).
États désignés : CN, KR, SG.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)