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1. (WO2002023964) CHAMBRE DE TRAITEMENT AVEC COUVERCLE BRASE MULTICOUCHE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/023964    N° de la demande internationale :    PCT/US2001/029219
Date de publication : 21.03.2002 Date de dépôt international : 12.09.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    05.04.2002    
CIB :
C23C 16/44 (2006.01), C23C 16/455 (2006.01), H01L 21/00 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; P.O. Box 450A Santa Clara, CA 95054 (US)
Inventeurs : UMOTOY, Sal; (US).
VO, Be, Van; (US).
TRINH, Son, Ngoc; (US)
Mandataire : BARRETT, Roger, T.; Townsend and Townsend and Crew LLP Two Embarcadero Center, 8th Floor San Francisco, CA 94111 (US)
Données relatives à la priorité :
60/232,289 13.09.2000 US
Titre (EN) PROCESSING CHAMBER WITH MULTI-LAYER BRAZED LID
(FR) CHAMBRE DE TRAITEMENT AVEC COUVERCLE BRASE MULTICOUCHE
Abrégé : front page image
(EN)In one embodiment of the present invention, an integral lid assembly (10) for sealing a substrate processing chamber includes first (16) and third (12) plates fixedly fused to a second plate (14) positioned therebetween. The first and second plates define a coolant passage (110) or channel therein, and the second and third plates define a gas delivery channel(s) (146, 148) therein. The first plate has a substantially planar surface for coupling to a processing chamber, and the third plate has a substantially planar surface for coupling to a microwave generation device or a remote plasma clean device (106). In this manner, the lid assembly is compact in size, and facilitates the mounting of a microwave device closer to the chamber than for bulkier lid assemblies. In another embodiment, gas passages (232) through the brazed lid assembly (200) are coupled to the processing chamber (310), and are configured to provide the desired gas distribution thereto for exemplary processes.
(FR)Dans un premier mode de réalisation, cette invention se rapporte à un ensemble couvercle en une seule pièce (10) servant à fermer hermétiquement une chambre de traitement de substrats et comprenant à cet effet une première (16) et une troisième plaque (12) fixées par fusion à une seconde plaque (14) placée entre elles. La première et la seconde plaque définissent entre elles un passage (110) ou un canal de passage pour un agent réfrigérant, et la seconde et la troisième plaque définissent entre elles un ou des canaux d'amenée de gaz (146, 148). La première plaque possède une surface essentiellement plane destinée à être couplée à une chambre de traitement, et la troisième plaque possède une surface essentiellement plane destinée à être couplée à un dispositif générateur de micro-ondes ou à un dispositif propre à plasma distant (106). Ainsi, on peut produire un ensemble couvercle de taille compacte et qui facilite le montage d'un dispositif à micro-ondes plus près de la chambre par rapport aux ensembles couvercles plus volumineux. Dans un autre mode de réalisation, des passages de gaz (232) à travers l'ensemble couvercle brasé (200) sont couplés à la chambre de traitement (310) et sont configurés pour assurer la distribution de gaz souhaitée nécessaire aux processus pris comme exemples.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)