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1. (WO2002023597) SAS DOUBLE A DEUX FENTES POUR EQUIPEMENT DE PROCEDE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/023597    N° de la demande internationale :    PCT/US2001/028944
Date de publication : 21.03.2002 Date de dépôt international : 13.09.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    09.04.2002    
CIB :
H01L 21/00 (2006.01), H01L 21/677 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; P.O. Box 450A, Santa Clara, CA 95052 (US)
Inventeurs : KURITA, Shinichi; (US).
BLONIGAN, Wendell, T.; (US)
Mandataire : BERNADICOU, Michael, A.; Blakely, Sokoloff, Taylor & Zafman LLP, 7th floor, 12400 Wilshire Boulevard, Los Angeles, CA 90025 (US)
Données relatives à la priorité :
09/663,862 15.09.2000 US
Titre (EN) DOUBLE DUAL SLOT LOAD LOCK FOR PROCESS EQUIPMENT
(FR) SAS DOUBLE A DEUX FENTES POUR EQUIPEMENT DE PROCEDE
Abrégé : front page image
(EN)Provided herein is a substrate processing system, which comprises a cassette load station; a load lock chamber; a centrally located transfer chamber; and one or more process chambers located about the periphery of the transfer chamber. The load lock chamber comprises double dual slot load locks constructed at same location. such system may be used for processing substrates for semiconductor manufacturing.
(FR)L'invention concerne un système de traitement de substrat, comprenant une station de chargement de cassette, une enceinte sas, une enceinte de transfert centrale et une ou plusieurs enceintes de traitement en périphérie de l'enceinte de transfert. L'enceinte sas est constituée de deux sas à deux fentes construits au même endroit. On peut utiliser un tel système pour le traitement de substrats en fabrication de semi-conducteurs.
États désignés : CN, JP, KR.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)