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1. (WO2002023289) PROCEDE D'ECHANTILLONNAGE ADAPTATIF POUR LE CONTROLE AMELIORE DE LA FABRICATION DES SEMICONDUCTEURS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/023289    N° de la demande internationale :    PCT/US2001/028003
Date de publication : 21.03.2002 Date de dépôt international : 07.09.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    25.02.2002    
CIB :
G05B 11/42 (2006.01), G05B 13/04 (2006.01), G05B 17/02 (2006.01), G05B 21/02 (2006.01)
Déposants : ADVANCED MICRO DEVICES, INC. [US/US]; One AMD Place Mail Stop 68 Sunnyvale, CA 94088-3453 (US)
Inventeurs : PASADYN, ALexander, James; (US).
TOPRAC, Anthony, John; (US).
MILLER, Michael, Lee; (US)
Mandataire : DRAKE, Paul, S.; Advanced Micro Devices, Inc. 5204 East Ben While Boulevard M/S 562 Austin, TX 78741 (US).
PICKER, Madeline M.; Brookes Batchellor 102-108 Clerkenwell Road London EC1M 5SA (GB)
Données relatives à la priorité :
09/663,732 15.09.2000 US
Titre (EN) ADAPTIVE SAMPLING METHOD FOR IMPROVED CONTROL IN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING
(FR) PROCEDE D'ECHANTILLONNAGE ADAPTATIF POUR LE CONTROLE AMELIORE DE LA FABRICATION DES SEMICONDUCTEURS
Abrégé : front page image
(EN)A method is provided, the method comprising sampling (110) at least one parameter characteristic of processing performed on a workpiece in at least one processing step (105), and modeling the at least one characteristic parameter sampled using an adaptive sampling processing model (130), treating sampling as an integrated part of a dynamic control environment, varying the sampling based upon at least one of situational information, upstream events and requirements of run-to-run controllers. The method also comprises applying the adaptive sampling processing model (130) to modify (135, 155, 160) the processing performed in the at least one processing step (105).
(FR)L'invention concerne un procédé qui consiste à échantillonner (110) au moins un paramètre caractéristique du traitement accompli sur une pièce à travailler, selon au moins une étape de traitement (105), et à modéliser le ou les paramètres sur la base d'un modèle de traitement d'échantillonnage adaptatif (130), à traiter l'échantillonnage comme faisant partie intégrante d'un environnement de contrôle dynamique, et à varier l'échantillonnage en utilisant au moins une information de situation, des événements en amont et les besoins propres à des unités de contrôle fonctionnant d'exécution à exécution. Le procédé consiste également à appliquer le modèle (130) pour modifier (135, 155, 160) le traitement accompli durant la ou les étapes de traitement (105).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)