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1. (WO2002021583) ALIGNEUR ET PROCEDE DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/021583    N° de la demande internationale :    PCT/JP2001/007740
Date de publication : 14.03.2002 Date de dépôt international : 06.09.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    03.04.2002    
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku, Tokyo 100-8331 (JP) (Tous Sauf US).
NAKAHARA, Kanefumi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : NAKAHARA, Kanefumi; (JP)
Mandataire : TATEISHI, Atsuji; Paseo Building 5th floor 4-20, Haramachida 5-chome Machida-shi, Tokyo 194-0013 (JP)
Données relatives à la priorité :
2000-269521 06.09.2000 JP
Titre (EN) ALIGNER AND METHOD OF MANUFACTURING A DEVICE
(FR) ALIGNEUR ET PROCEDE DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Abrégé : front page image
(EN)An aligner, wherein a buffer (116) allowing a plurality sheets of masks to stock therein and allowed to be loaded and unloaded is disposed in a mask carrying route ranging from the carrying in/out ports (22A, 22B) of an SMIF pod (28) to a mask stage (RST), and a mask carrying system (32) transfers the masks between the carrying in/out ports (22A, 22B), buffer (116), and mask stage (RST), whereby, because the carrying system (32) carries in order the masks carried into a device in the state of being stored in the SMIF pod (28), the masks can be maximally stored therein to allow sufficient sheets of masks necessary for exposure to be always held in the device and, because the carrying system transfers the masks between the carrying in/out ports, buffer, and mask stage, the mask container replacement operation by an operator's manual operation can be eliminated.
(FR)L'invention concerne un aligneur dans lequel un tampon (116) est placé sur un trajet de transfert de masque allant des entrée/sorties de masque (22A, 22B) d'une nacelle d'interface mécanique standard (SMIF) (28) vers un étage de masque (RST). Ledit tampon renferme une pluralité de feuilles de masque et permet le chargement et le déchargement de ces masques. Un système de transfert de masque (32) transfère les masques entre les entrées/sorties (22A, 22B), le tampon (116) et l'étage de masque (RST). Etant donné que ledit système (32) achemine en ordre les masques introduits dans un dispositif à l'état prêt pour l'enregistrement au niveau de la nacelle SMIF (28), l'enregistrement des masques peut être réalisé de façon optimale, ce qui permet de maintenir à tout moment dans le dispositif suffisamment de feuilles de masque aux fins d'exposition. Enfin, puisque le système de transfert achemine les masques entre les entrées/sorties, le tampon et l'étage RST, l'opération de remplacement de contenant de masque par intervention manuelle d'opérateur peut être éliminée.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)