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1. (WO2002020405) PROCEDE DE PREPARATION DE CHLOROSILANES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/020405    N° de la demande internationale :    PCT/EP2001/010269
Date de publication : 14.03.2002 Date de dépôt international : 06.09.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    30.03.2002    
CIB :
C01B 33/03 (2006.01), C01B 33/107 (2006.01), C07F 7/16 (2006.01)
Déposants : SOLARWORLD AG [DE/DE]; Kurt-Schumacher-Strasse 8-9 53113 Bonn (DE) (Tous Sauf US).
BULAN, Andreas [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
WEBER, Rainer [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
MLECZKO, Leslaw [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : BULAN, Andreas; (DE).
WEBER, Rainer; (DE).
MLECZKO, Leslaw; (DE)
Mandataire : RAU, Albrecht; Königstrasse 2 90402 Nürnberg (DE)
Données relatives à la priorité :
100 44 796.1 11.09.2000 DE
Titre (DE) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON CHLORSILANEN
(EN) METHOD FOR PRODUCING CHLOROSILANES
(FR) PROCEDE DE PREPARATION DE CHLOROSILANES
Abrégé : front page image
(DE)Verfahren zur Herstellung von Chlorsilanen unter Verwendng von Silicium, das homogen verteiltes Kupfersilicid enthält. Insbesondere Verfahren zur Herstellung von Trichlorsilan durch Umsetzung dieses Siliciums mit Wasserstoff, Siliciumtetrachlorid gegebenenfalls Chlorwasserstoff.
(EN)The invention relates to a method for producing chlorosilanes using silicon containing homogeneously distributed copper silicide. The invention especially relates to a method for producing trichlorosilane by reacting said silicon with water, silicon tetrachloride and optionally hydrogen chloride.
(FR)L'invention concerne un procédé de préparation de chlorosilanes au moyen de silicium contenant du siliciure de cuivre distribué de façon homogène. L'invention concerne en particulier un procédé de préparation de trichlorosilane, consistant à faire réagir ledit silicium avec de l'hydrogène, du tétrachlorure de silicium et éventuellement du chlorure d'hydrogène.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)