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1. (WO2002020399) PROJECTION PLASMA AVEC MELANGE GAZEUX TERNAIRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/020399    N° de la demande internationale :    PCT/FR2001/002625
Date de publication : 14.03.2002 Date de dépôt international : 17.08.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    09.01.2002    
CIB :
C01B 23/00 (2006.01), C23C 4/12 (2006.01)
Déposants : L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME A DIRECTOIRE ET CONSEIL DE SURVEILLANCE POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE [FR/FR]; 75, quai d'Orsay F-75321 Paris Cedex 07 (FR) (Tous Sauf US).
GOURLAOUEN, Vincent [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
BATHELIER, Daniel [FR/FR]; (FR) (US Seulement)
Inventeurs : GOURLAOUEN, Vincent; (FR).
BATHELIER, Daniel; (FR)
Mandataire : PITTIS, Olivier; L'Air Liquide, S.A. 75, quai d'Orsay F-75321 Paris Cedex 07 (FR)
Données relatives à la priorité :
00/11350 06.09.2000 FR
Titre (EN) PLASMA SPRAY WITH TERNARY GAS MIXTURE
(FR) PROJECTION PLASMA AVEC MELANGE GAZEUX TERNAIRE
Abrégé : front page image
(EN)The invention concerns a plasma-forming gas consisting of a ternary mixture of helium, argon and hydrogen characterised in that it contains 3 to 20 % by volume of helium, 16 to 24 % by volume of hydrogen, the remainder being argon. Said gas mixture is particularly adapted for use in plasma spraying of refractory or metal powders, in particular for producing adhesive undercoats, for protection against oxidation or wear.
(FR)L'invention concerne un gaz plasmagène constitué d'un mélange ternaire d'hélium, d'argon et d'hydrogène caractérisé en ce qu'il contient de 3 à 20 % en volume d'hélium, de 16 à 24 % en volume d'hydrogène et de l'argon pour le reste. Ce mélange gazeux est particulièrement adapté à une application en projection plasma de poudres réfractaires ou métalliques, notamment pour réaliser des sous-couches d'accrochage, de protection contre l'oxydation ou anti-usure.
États désignés : AL, AU, BR, CA, CN, CZ, ID, IL, IN, IS, JP, KR, MX, NO, NZ, PL, RO, RU, SG, SI, SK, UA, US, YU, ZA.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)