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1. (WO2002020174) APPAREIL ET DISPOSITIF POUR LE DEPOT D'UN REVETEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/020174    N° de la demande internationale :    PCT/US2001/023493
Date de publication : 14.03.2002 Date de dépôt international : 26.07.2001
CIB :
B05B 13/02 (2006.01), B05B 13/04 (2006.01)
Déposants : SURMODICS, INC. [US/US]; 9924 West 74th Street Eden Prairie, MN 55344 (US)
Inventeurs : CHAPPA, Ralph, A.; (US).
PORTER, Steven, J.; (US)
Mandataire : BRUESS, Steven, C.; Merchant & Gould P.C. P.O. Box 2903 Minneapolis, MN 55402-0903 (US)
Données relatives à la priorité :
09/657,885 08.09.2000 US
Titre (EN) COATING APPARATUS AND METHOD
(FR) APPAREIL ET DISPOSITIF POUR LE DEPOT D'UN REVETEMENT
Abrégé : front page image
(EN)The invention provides a device (1) for holding a substrate (48) during deposition processes that includes a rotation member (4) rotatable about a first, central axis (29), and a plurality of substrate holders positioned on the rotation member, the substrate holders (9) being rotatable about second axes. In another aspect, the invention provides a method of applying a substantially uniform coating on a substrate (48) including the steps of providing a device of the invention; mounting a substrate onto the substrate mounts; providing at least one substrate coating station (2) in spaced relation to the substrate mounts; rotating the rotation member about a central axis to position one or more of the substrate mounts at the substrate coating station; supplying the coating through the nozzle (52); moving the nozzle of the coating station in a direction parallel to the substrate at a predetermined rate to apply a uniform coating on the substrate; and rotating the substrate mounts about the second axes during the coating process.
(FR)L'invention concerne un dispositif (1) de maintien de substrat (48) en cours de dépôt de revêtement, qui comprend un élément rotatif (4) mis en rotation autour d'un premier axe central (29), et une pluralité de pièces de retenue de substrat placées sur l'élément rotatif (9) et mises en rotation autour de seconds axes. Selon un autre aspect, l'invention concerne un procédé relatif à l'application d'un revêtement sensiblement uniforme sur un substrat (48) qui comprend les étapes suivantes: établissement du dispositif décrit; montage d'un substrat sur les montures de substrat; établissement d'au moins un poste de revêtement de substrat (2) espacé par rapport aux montures de substrat; rotation de l'élément rotatif autour d'un axe central pour positionner une ou plusieurs montures de substrat au poste de revêtement de substrat; application du revêtement par la buse (52); déplacement de la buse du poste de revêtement dans une direction parallèle au substrat selon une proportion préétablie pour appliquer un revêtement uniforme sur le substrat; et rotation des montures de substrat autour des seconds axes durant l'opération de revêtement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)