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1. (WO2002020062) IMPLANT ENROBE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/020062    N° de la demande internationale :    PCT/EP2001/009873
Date de publication : 14.03.2002 Date de dépôt international : 28.08.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    21.02.2002    
CIB :
A61K 51/12 (2006.01), A61N 5/10 (2006.01)
Déposants : FORSCHUNGSZENTRUM KARLSRUHE GMBH [DE/DE]; Weberstr. 5 76133 Karlsruhe (DE) (Tous Sauf US).
MÖSLANG, Anton [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
PRZYKUTTA, Andreas [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
WALCH, Eric [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : MÖSLANG, Anton; (DE).
PRZYKUTTA, Andreas; (DE).
WALCH, Eric; (DE)
Mandataire : FORSCHUNGSZENTRUM KARLSRUHE GMBH; Stabsabteilung Patente und Lizenzen Postfach 3640 76021 Karlsruhe (DE)
Données relatives à la priorité :
100 44 559.4 08.09.2000 DE
Titre (DE) BESCHICHTETES IMPLANTAT
(EN) COATED IMPLANT
(FR) IMPLANT ENROBE
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein beschichtetes Implantat, bei dem die Beschichtung mindestens aus einem Edelmetall und einem Metall, welches mindestens ein radioaktives Isotop enthält, besteht. Aufgabe der Erfindung ist es, ein beschichtetes Implantat mit geringer Auswaschrate bereitzustellen. Gelöst wird diese Aufgabe dadurch, dass die Beschichtung aus mindestens zwei Schichten besteht, einer Schicht aus Edelmetall und einer Schicht aus dem Metall, welches mindestens ein radioaktives Isotop enthält, wobei die Schichten elektrochemisch auf dem Implantat aufgebracht und anschließend getempert wurden.
(EN)The invention relates to a coated implant, the coating thereof consisting of at least one noble metal and one metal containing at least one radioactive isotope. The aim of the invention is to provide a coated implant having a low elution rate. In order to achieve this, the coating consists of at least two layers, one layer being made of noble metal and another being made of a metal containing at least one radioactive isotope. Said layers are electrochemically applied to the implant and are then tempered.
(FR)L'invention concerne un implant enrobé dans lequel l'enrobage comprend au moins un métal noble et un métal renfermant au moins un isotope radioactif. L'invention vise à obtenir un implant enrobé à faible taux d'élimination par lavage. A cet effet, l'invention est caractérisée en ce que l'enrobage comprend au moins deux couches, à savoir, une couche en métal noble et une couche en un métal renfermant au moins un isotope radioactif, et en ce que les couches sont appliquées sur l'implant par voie électrochimique et sont ensuite soumises à un recuit.
États désignés : US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)