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1. (WO2002019410) FILM SILICEUX POREUX POURVU D'UNE FAIBLE PERMITTIVITE, DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS ET COMPOSITION DE REVETEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/019410    N° de la demande internationale :    PCT/JP2001/007380
Date de publication : 07.03.2002 Date de dépôt international : 28.08.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    20.03.2002    
CIB :
C09D 183/16 (2006.01), H01L 21/316 (2006.01), H01L 21/768 (2006.01)
Déposants : CLARIANT INTERNATIONAL LTD. [CH/CH]; Rothausstrasse 61 CH-4132 Muttenz 1 (CH) (Tous Sauf US).
AOKI, Tomoko [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SHIMIZU, Yasuo [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : AOKI, Tomoko; (JP).
SHIMIZU, Yasuo; (JP)
Mandataire : ISHIDA, Takashi; A. AOKI, ISHIDA & ASSOCIATES Toranomon 37 Mori Bldg., 5-1, Toranomon 3-chome Minato-ku, Tokyo 105-8423 (JP)
Données relatives à la priorité :
2000-259531 29.08.2000 JP
Titre (EN) POROUS SILICEOUS FILM HAVING LOW PERMITTIVITY, SEMICONDUCTOR DEVICES AND COATING COMPOSITION
(FR) FILM SILICEUX POREUX POURVU D'UNE FAIBLE PERMITTIVITE, DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS ET COMPOSITION DE REVETEMENT
Abrégé : front page image
(EN)A porous siliceous film which stably exhibits a low permittivity and is so excellent in both mechanical strengths and various chemical resistances as to withstand CMP and other up-to-date fabrication processes for integrated circuits and thus suitable for an interlayer dielectric film. This film can be formed by firing a coating of a composition comprising a polyalkylsilazane and a polyacrylate ester or a polymethacrylate ester and is characterized by a relative permittivity below 2.5.
(FR)L'invention concerne un film siliceux poreux présentant de manière stable une faible permittivité et d'excellentes résistances mécaniques et chimiques diverses, de manière à résister à CPM, et divers processus de fabrication récents destinés aux circuits intégrés et appropriés à un film diélectrique intercouches. On peut former ce film en soumettant au feu un revêtement d'une compostion renfermant un polyalylsilazane et un ester de polyacrylate ou un ester de polyméthacrylate, ledit film étant caractérisé par une permittivité relative inférieure à 2,5.
États désignés : CN, KR, SG, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)