WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2002019034) COMPOSITION POSSEDANT UN INDICE DE REFRACTION SENSIBLEMENT MODIFIABLE PAR RAYONNEMENT ET PROCEDE POUR FORMER UN MOTIF D'INDICE DE REFRACTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/019034    N° de la demande internationale :    PCT/JP2001/007275
Date de publication : 07.03.2002 Date de dépôt international : 24.08.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    01.03.2002    
CIB :
C08L 67/00 (2006.01), C08L 69/00 (2006.01), G02B 1/04 (2006.01), G02B 5/18 (2006.01), G02B 6/124 (2006.01), G03F 7/00 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), G03F 7/075 (2006.01)
Déposants : JSR CORPORATION [JP/JP]; 11-24, Tsukiji 2-chome Chuo-ku, Tokyo 104-0045 (JP) (Tous Sauf US).
NISHIMURA, Isao [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
BESSHO, Nobuo [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KUMANO, Atsushi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SHIMOKAWA, Tsutomu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
YAMADA, Kenji [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : NISHIMURA, Isao; (JP).
BESSHO, Nobuo; (JP).
KUMANO, Atsushi; (JP).
SHIMOKAWA, Tsutomu; (JP).
YAMADA, Kenji; (JP)
Mandataire : OHSHIMA, Masataka; Ohshima Patent Office Fukuya Building 3, Yotsuya 4-chome Shinjuku-ku Tokyo 160-0004 (JP)
Données relatives à la priorité :
2000-258524 29.08.2000 JP
2000-265483 01.09.2000 JP
2000-324508 24.10.2000 JP
2000-345764 13.11.2000 JP
2000-360075 27.11.2000 JP
2001-018765 26.01.2001 JP
Titre (EN) COMPOSITION HAVING REFRACTIVE INDEX SENSITIVELY CHANGEABLE BY RADIATION AND METHOD FOR FORMING REFRACTIVE INDEX PATTERN
(FR) COMPOSITION POSSEDANT UN INDICE DE REFRACTION SENSIBLEMENT MODIFIABLE PAR RAYONNEMENT ET PROCEDE POUR FORMER UN MOTIF D'INDICE DE REFRACTION
Abrégé : front page image
(EN)A composition having a refractive index sensitively changeable by a radiation which comprises (A) a decomposable compound, (B) a non-decomposable compound having a refractive index lower than that of the decomposable compound (A), (C) a radiation-sensitive decomposing agent, and (D) a stabilizer. The irradiation of the composition with a radiation ray via a mask decomposes the above (C) and (A) components in a irradiated portion, resulting in the occurrence of the difference in refractive index between an irradiated portion and a non-irradiated portion, which leads to the formation of a pattern having regions of different refractive indexes.
(FR)Composition possédant un indice de réfraction sensiblement modifiable par rayonnement, qui comprend (A) un composé décomposable et (B) un composé non décomposable ayant un indice de réfraction inférieur à celui du composé décomposable (A), (C) un agent de décomposition sensible au rayonnement ainsi que (D) un stabilisateur. L'irradiation de la composition avec un rayon à travers un masque décompose les composés (A) et (C) dans la partie irradiée, ce qui fait apparaître une différence de l'indice de réfraction entre la partie irradiée et celle non irradiée, ce qui entraîne la formation d'un motif présentant des régions d'indices de réfraction différents.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)