WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2002018670) DISPOSITIF DE DEPOT DE COUCHES, EN PARTICULIER CRISTALLINES, SUR UN OU PLUSIEURS SUBSTRATS, EN PARTICULIER EGALEMENT CRISTALLINS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/018670    N° de la demande internationale :    PCT/EP2001/008886
Date de publication : 07.03.2002 Date de dépôt international : 01.08.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    06.03.2002    
CIB :
C23C 16/44 (2006.01), C30B 25/14 (2006.01)
Déposants : AIXTRON AG [DE/DE]; Kackertstrasse 15-17, 52072 Aachen (DE) (AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BJ, BR, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GW, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MC, MD, MG, MK, ML, MN, MR, MW, MX, MZ, NE, NL, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SN, SZ, TD, TG, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW only).
JÜRGENSEN, Holger [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
STRAUCH, Gerd [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
KÄPPELER, Johannes [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : JÜRGENSEN, Holger; (DE).
STRAUCH, Gerd; (DE).
KÄPPELER, Johannes; (DE)
Mandataire : GRUNDMANN, Dirk; Rieder & Partner, Corneliusstrasse 45, 42329 Wuppertal (DE)
Données relatives à la priorité :
100 43 599.8 01.09.2000 DE
Titre (DE) CVD-REAKTOR MIT GASAUSLASSRING AUS MASSIVEM GRAFIT
(EN) CVD REACTOR WITH A GAS OUTLET RING MADE OF SOLID GRAPHITE
(FR) DISPOSITIF DE DEPOT DE COUCHES, EN PARTICULIER CRISTALLINES, SUR UN OU PLUSIEURS SUBSTRATS, EN PARTICULIER EGALEMENT CRISTALLINS
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Abscheiden insbesondere kristalliner Schichten auf einem oder mehreren, insbesondere ebenfalls kristallinen Substraten in einer Prozesskammer (1) mittels in die Prozesskammer (1) eingeleiteter und sich dort pyrolytisch umsetzender Reaktionsgase, mit einer eine Wand der Prozesskammer bildenden, rückwärtig, insbesondere mit Hochfrequenz beheizbaren Trägerplatte (3) aus insbesondere innert-beschichtetem Grafit, mit einem im Zentrum der einen kreisförmigen Querschnitt besitzenden Prozesskammer (1) angeordneten, einer beabstandet von der Trägerplatte (3) angeordneten Deckplatte (4) zugeordneten Gaseinlassorgan (6) und einem die äussere Begrenzung der Prozesskammer (1) bildenden Gasauslassring (5), der eine Vielzahl von radialen Gasaustrittsöffnungen (25) besitzt. Um das Isothermenprofil innerhalb der Prozesskammer möglichst flach zu halten, schlägt die Erfindung vor, dass der Gasauslassring (5) aus massivem Grafit besteht.
(EN)The invention relates to a device for depositing especially, crystalline layers onto one or more substrates, especially substrates which are also crystalline, in a process chamber (1), using reaction gases which are guided into said process chamber (1), where they undergo pyrolytic reaction. The device comprises a reverse-heatable support plate (3) which forms a wall of the process chamber and which can especially be heated with a high frequency, consisting of especially inertly coated graphite; a gas inlet mechanism (6) which is located in the centre of the process chamber (1), said process chamber having a circular cross-section, and which is allocated to a cover plate (4) that is situated at a distance from the support plate (3); and a gas outlet ring (5) which forms the outer limit of the process chamber (1) and which has a plurality of radial gas outlets (25). According to the invention, the gas outlet ring (5) consists of solid graphite in order to keep the isothermal profile inside the process chamber as flat as possible.
(FR)L'invention concerne un dispositif permettant de déposer des couches, en particulier cristallines, sur un ou plusieurs substrats, en particulier également cristallins, dans une chambre de traitement (1) au moyen de gaz réactants introduits et réagissant par pyrolyse dans la chambre de traitement (1). Ce dispositif comprend : une plaque de support (3) chauffable par l'arrière, en particulier par haute fréquence, formant une paroi de la chambre de traitement et composée de graphite revêtu en particulier d'une substance inerte ; un organe d'admission de gaz (6) disposé au centre de la chambre de traitement (1), laquelle présente une section circulaire, et combiné à une plaque de recouvrement (4) disposée à distance de la plaque de support (3) ; et une bague de sortie de gaz (5) formant la limite externe de la chambre de traitement (1) et présentant une pluralité d'ouvertures radiales de sortie de gaz (25). Afin de maintenir au maximum un profil isothermique plan à l'intérieur de la chambre de traitement, on utilise une bague de sortie de gaz (5) en graphite massif.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)