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1. (WO2002018394) COMPOSITIONS DE REACTIF DE SOURCE ET PROCEDE POUR FORMER DES FILMS METALLIQUES SUR UN SUBSTRAT PAR DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/018394    N° de la demande internationale :    PCT/US2001/026339
Date de publication : 07.03.2002 Date de dépôt international : 23.08.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    27.03.2002    
CIB :
C07F 1/00 (2006.01), C07F 3/00 (2006.01), C07F 5/00 (2006.01), C07F 5/06 (2006.01), C07F 7/00 (2006.01), C07F 9/00 (2006.01), C07F 9/94 (2006.01), C07F 11/00 (2006.01), C07F 15/00 (2006.01), C23C 16/18 (2006.01), C23C 16/30 (2006.01), C23C 16/40 (2006.01)
Déposants : ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC. [US/US]; 7 Commerce Drive, Danbury, CT 08610 (US)
Inventeurs : GARDINER, Robin, A.; (US).
KIRLIN, Peter, S.; (US).
BAUM, Thomas, H.; (US).
GORDON, Douglas; (US).
GLASSMAN, Timothy, E.; (US).
POMBRIK, Sofia; (US).
VAARTSTRA, Brian, A.; (US)
Mandataire : ZITZMANN, Oliver, A., M.; Advanced Technology Materials, Inc., 7 Commerce Drive, Danbury, CT 06810 (US)
Données relatives à la priorité :
09/649,549 28.08.2000 US
Titre (EN) SOURCE REAGENT COMPOSITIONS AND METHOD FOR FORMING METAL FILMS ON A SUBSTRATE BY CHEMICAL VAPOR DEPOSITION
(FR) COMPOSITIONS DE REACTIF DE SOURCE ET PROCEDE POUR FORMER DES FILMS METALLIQUES SUR UN SUBSTRAT PAR DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR
Abrégé : front page image
(EN)A metalorganic complex composition comprising a metalorganic complex selected from the group consisting of: metalorganic complexes comprising one or more metal central atoms coordinated to one or more monodentate or multidentate organic ligands, and complexed with one or more complexing monodentate or multidentate ligands containing one or more atoms independently selected from the group consisting of atoms of the elements C, N, H, So, O and F; wherein when the number of metal atoms is one and concurrently the number of complexing monodentate or multidentate ligands is one, then the complexing monodentate or multidentate ligand of the metalorganic complex is selected from the group consisting of beta-ketoiminates, beta-diiminates, C¿2?-C¿10? alkenyl, C¿2?-C¿15? cycloalkenyl and C¿6?-C¿10? aryl.
(FR)Composition de complexe organométallique comprenant un complexe organométallique sélectionné à partir du groupe constitué de ce qui suit: complexes organométalliques comprenant un ou plusieurs atomes centraux de métal, coordonnés vers un ou plusieurs ligands organiques mono- ou multidentés et complexés avec un ou plusieurs ligands mono- ou multidentés formateurs de complexes qui contiennent un ou plusieurs atomes sélectionnés indépendamment dans le groupe constitué des atomes d'éléments C, N, H, So, O et F; le nombre d'atomes de métal est égal à un, et le nombre de ligands mono- ou multidentés formateurs de complexes est aussi égal à un; de cette manière, le ligand mono- ou multidenté formateur de complexes est sélectionné dans le groupe constitué de bêta-céto-iminates, bêta-diiminates, alcényl C2-C10, cycloalcényle C2-C15 et aryle C6-C10.
États désignés : AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CU, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GE, GH, HU, IL, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, UZ, VN, YU, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)