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1. (WO2002018332) COMPOSE DE SEL DE SULFONIUM
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/018332    N° de la demande internationale :    PCT/JP2001/005512
Date de publication : 07.03.2002 Date de dépôt international : 27.06.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    21.01.2002    
CIB :
C07C 53/21 (2006.01), C07C 381/12 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/038 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01)
Déposants : WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 1-2, Doshomachi 3-chome Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 540-8605 (JP) (Tous Sauf US).
ISHIHARA, Masami [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SUMINO, Motoshige [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
FUKASAWA, kazuhito [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KATANO, Naoki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
IMAZEKI, Shigeaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : ISHIHARA, Masami; (JP).
SUMINO, Motoshige; (JP).
FUKASAWA, kazuhito; (JP).
KATANO, Naoki; (JP).
IMAZEKI, Shigeaki; (JP)
Représentant
commun :
WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.; 1-7, Nihonbashi-honcho 2-chome Chuo-ku Tokyo 103-0023 (JP)
Données relatives à la priorité :
2000-260157 30.08.2000 JP
Titre (EN) SULFONIUM SALT COMPOUND
(FR) COMPOSE DE SEL DE SULFONIUM
Abrégé : front page image
(EN)A compound represented by the general formula [1] [1] (wherein R?1¿, R?2¿, and R?3¿ each independently represents a residue of an aromatic hydrocarbon; Y?n-¿ represents an anion derived from a fluorinated carboxylic acid having three or more carbon atoms; and n is 1 or 2, provided that R?1¿, R?2¿, and R?3¿ each is not a phenyl group having a substituent in an ortho and/or a meta position); and a composition comprising the compound and a diazodisulfone compound. Use of the compound or the composition as an acid generator for resists produces the effect of improving the profiles of ultrafine patterns or diminishing side wall irregularities in ultrafine patterns. The compound is also useful as a cationic photopolymerization initiator.
(FR)L'invention concerne un composé représenté par la formule générale [1] (dans laquelle R?1¿, R?2¿ et R?3¿ représentent chacun indépendamment un résidu d'un hydrocarbure aromatique; Y?n-¿ représente un anion dérivé d'un acide carboxylique fluoré ayant trois atomes de carbone ou davantage; et n représente 1 ou 2, à condition que R?1¿, R?2¿ et R?3¿ ne représentent pas chacun un groupe phényle ayant un substituant en position ortho et/ou méta), ainsi qu'une composition contenant le composé ainsi qu'un composé diazodisulfone. L'utilisation du composé ou de la composition en tant que générateur d'acide pour des résists a l'effet d'améliorer les profils de motifs ultra fins ou de diminuer les irrégularités de parois latérales dans des motifs ultrafins. Le composé est également utile en tant qu'initiateur de photopolymérisation cationique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)