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1. (WO2002018136) COMPOSITES POLYMERIQUES DE CHLOROTRIFLUOROETHYLENE UTILISES DANS DES STRUCTURES PORTEUSES ARCHITECTURALES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/018136    N° de la demande internationale :    PCT/US2001/027292
Date de publication : 07.03.2002 Date de dépôt international : 31.08.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    27.03.2002    
CIB :
C09D 127/12 (2006.01), D06N 3/04 (2006.01)
Déposants : CHEMFAB CORPORATION [US/US]; 701 Daniel Webster Highway Box 1137 Merrimack, NH 03054 (US)
Inventeurs : SAHLIN, Katherine, M.; (US).
SOCHA, Laura; (US).
EFFENBERGER, John; (US)
Mandataire : DRIVAS, Dimitrios, T.; White & Case LLP 1155 Avenue of the Americas New York, NY 10036 (US)
Données relatives à la priorité :
09/653,779 01.09.2000 US
Titre (EN) POLYMERIC COMPOSITES OF CHLOROTRIFLUOROETHYLENE FOR USE IN ARCHITECTURAL LOAD-BEARING STRUCTURES
(FR) COMPOSITES POLYMERIQUES DE CHLOROTRIFLUOROETHYLENE UTILISES DANS DES STRUCTURES PORTEUSES ARCHITECTURALES
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to novel amorphous, high molecular weight polymeric composites of CTFE-VF¿2? for use in architectural load-bearing structures. These composites include a termonomer comprising a vinyl ester or acid with an alpha hydrogen. The composites of the invention may be used in a variety of long-term structure end use applications where resistance to UV exposure, staining, chipping, cracking and flaking are desirable.
(FR)L'invention concerne des nouveaux composites polymériques amorphes de poids moléculaire élevée de CTFE-VF¿2? utilisés dans des structures porteuses architecturales. Ces composites comprennent un termonomère renfermant un ester de vinyle ou un acide pourvu d'un hydrogène alpha. Les composites de l'invention présentent un vaste champ d'applications et permettent d'obtenir des structures durables résistant à l'exposition aux UV, à la formation de taches, à la désagrégation, aux craquelures et à l'écaillage.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)