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1. (WO2002017853) COMPOSITIONS ANTI-ADHERENTES A BASE D'HYALURONANE, LEUR PREPARATION ET LEUR UTILISATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/017853    N° de la demande internationale :    PCT/US2001/026418
Date de publication : 07.03.2002 Date de dépôt international : 23.08.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    22.02.2002    
CIB :
A61K 31/70 (2006.01)
Déposants : GENZYME BIOSURGERY CORPORATION [US/US]; One Kendall Square, Cambridge, MA 02139 (US) (Tous Sauf US).
BALAZS, Endre, A. [US/US]; (US) (US Seulement).
LESHCHINER, Adele [US/US]; (US) (US Seulement).
LARSEN, Nancy, E. [US/US]; (US) (US Seulement).
MITLITSKI, Vadim [US/US]; (US) (US Seulement).
WHETSTONE, Julie, L. [US/US]; (US) (US Seulement).
PARENT, Edward [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : BALAZS, Endre, A.; (US).
LESHCHINER, Adele; (US).
LARSEN, Nancy, E.; (US).
MITLITSKI, Vadim; (US).
WHETSTONE, Julie, L.; (US).
PARENT, Edward; (US)
Mandataire : PALMER, Sheldon; 630 Third Avenue, New York, NY 10017-6705 (US)
Données relatives à la priorité :
09/652,045 31.08.2000 US
Titre (EN) HYALURONAN-BASED ANTIADHESION COMPOSITIONS, THEIR PREPARATION AND USE
(FR) COMPOSITIONS ANTI-ADHERENTES A BASE D'HYALURONANE, LEUR PREPARATION ET LEUR UTILISATION
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed are hyaluronan and hylan (A) and (B) compressed films for use in preventing post surgical adhesion formation and processes for making and using them.
(FR)L'invention concerne des films comprimés d'hyaluronane et d'hylane (A) et (B) servant à empêcher la formation d'adhérence post-opératoire. L'invention concerne également des procédés pour produire ces films et les utiliser.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)