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1. (WO2002017713) MATRICE DOUBLE COUCHE A BASE DE COLLAGENE/POLYSACCHARIDE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/017713    N° de la demande internationale :    PCT/US2001/025017
Date de publication : 07.03.2002 Date de dépôt international : 10.08.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    12.03.2002    
CIB :
A61L 27/22 (2006.01), A61L 27/24 (2006.01)
Déposants : DEPUY ACROMED, INC. [US/US]; 325 Paramount Drive, Raynham, MA 02767-0350 (US) (Tous Sauf US).
SPIRO, Robert, C. [US/US]; (US) (US Seulement).
LIU, Lin, Shu [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : SPIRO, Robert, C.; (US).
LIU, Lin, Shu; (US)
Mandataire : SUYAT, Reginald, J.; Beyer Weaver & Thomas, LLP, P.O. Box 778, Berkeley, CA 94704-0778 (US)
Données relatives à la priorité :
09/652,604 30.08.2000 US
Titre (EN) COLLAGEN/POLYSACCHARIDE BILAYER MATRIX
(FR) MATRICE DOUBLE COUCHE A BASE DE COLLAGENE/POLYSACCHARIDE
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed are bilayer matrices of a polysaccharide such as collagen (COL) and another polysaccharide such as hyaluronic acid (HA) with various COL/HA ratios. Each layer has a porous structure. These materials are useful for tissue regeneration, particularly when used with orthopedic implants and drug delivery.
(FR)L'invention concerne des matrices double couche à base d'un polysaccharide tel que du collagène et d'un autre polysaccharide tel que l'acide hyaluronique, les rapports entre le collagène et l'acide hyaluronique pouvant varier. Chaque couche possède une structure poreuse. Ces substances sont utiles pour régénérer les tissus, notamment lorsqu'on les utilise avec des implants orthopédiques et dans l'apport de médicaments.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)