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1. (WO2002012587) APPAREIL DE TRAITEMENT ET PROCEDE DE NETTOYAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/012587    N° de la demande internationale :    PCT/JP2001/006784
Date de publication : 14.02.2002 Date de dépôt international : 07.08.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    26.02.2002    
CIB :
B08B 7/00 (2006.01), C23C 16/44 (2006.01), H01J 37/32 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome Minato-ku Tokyo 107-8481 (JP) (Tous Sauf US).
OKA, Shinsuke [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
YOKOYAMA, Osamu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NAKASE, Risa [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ISHIZUKA, Shuuichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : OKA, Shinsuke; (JP).
YOKOYAMA, Osamu; (JP).
NAKASE, Risa; (JP).
ISHIZUKA, Shuuichi; (JP)
Mandataire : KIMURA, Mitsuru; 7th Floor Kyohan Building, 7, Kandanishiki-cho 2-chome Chiyoda-ku, Tokyo 101-0054 (JP)
Données relatives à la priorité :
2000-239426 08.08.2000 JP
Titre (EN) PROCESSING APPARATUS AND CLEANING METHOD
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT ET PROCEDE DE NETTOYAGE
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a parallel-plate-type processing apparatus (10), which performs plasma CVD and includes a chamber (11) to be cleaned. To perform cleaning of the chamber (11), plasma of a gas including fluorine is generated outside the chamber (11), and supplied into the chamber (11). During the cleaning, an RF power is applied to electrode plates (12, 17) inside the chamber (11).
(FR)L'invention concerne un appareil de traitement (10) du type à plaques parallèles, lequel exécute un dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma et comprend une chambre (11) à nettoyer. Afin d'effectuer le nettoyage de cette chambre (11), on produit du plasma d'un gaz comprenant du fluor, à l'extérieur de la chambre (11), et on introduit ce gaz dans celle-ci. Pendant l'étape de nettoyage, on applique une puissance R.F. sur les plaques électrodes (12, 17), à l'intérieur de la chambre.
États désignés : KR, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)