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1. (WO2002011637) DISPOSITIF ET PROCEDE D'EPILATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2002/011637 N° de la demande internationale : PCT/US2000/021475
Date de publication : 14.02.2002 Date de dépôt international : 07.08.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 22.03.2002
CIB :
A61B 17/00 (2006.01) ,A61B 18/14 (2006.01) ,A61N 7/00 (2006.01)
Déposants : TSALIOVICH, Anatoly[US/US]; US (UsOnly)
UNITED PRODUCTIONS INC.[US/US]; 55 Acorn Road Watchung, NJ 07060, US (AllExceptUS)
Inventeurs : TSALIOVICH, Anatoly; US
Mandataire : RABINOVICH, Alexander, D.; Rader, Fishman & Grauer PLLC 39533 Woodward Avenue Suite 140 Bloomfiled Hills, MI 48304, US
Données relatives à la priorité :
09/633,41607.08.2000US
Titre (EN) HAIR REMOVAL DEVICE AND METHOD
(FR) DISPOSITIF ET PROCEDE D'EPILATION
Abrégé : front page image
(EN) Method of removing hair comprises in conjunction applying radio frequency radiation to a selected skin zone, applying sonic waves to the skin zone, and pulling the slackened hair out. A device for removing hair comprises a radio frequency generator (22), an oscillator (24) and tweezers (28). A radio frequency power selector (30) enables selecting a suitable mode of operation depending on the texture of skin and its sensitivity.
(FR) L'invention concerne un procédé d'épilation qui consiste à combiner l'application de rayonnements à fréquence radioélectrique sur une zone de peau choisie, l'application d'ondes soniques à ladite zone et l'enlèvement des poils ramollis. Un dispositif d'épilation comprend un générateur (22) à fréquence radioélectrique, un oscillateur (24) et des pinces (28). Un sélecteur de puissance (30) à fréquence radioélectrique permet de choisir un mode de fonctionnement approprié selon la texture de la peau et de sa sensibilité.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)