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1. (WO2002011499) PROCEDE ET APPAREIL PERMETTANT DE GENERER DES RAYONS X OU UV EXTREMES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/011499    N° de la demande internationale :    PCT/SE2001/001646
Date de publication : 07.02.2002 Date de dépôt international : 18.07.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    22.02.2002    
CIB :
H01J 35/08 (2006.01), H05G 2/00 (2006.01)
Déposants : JETTEC AB [SE/SE]; c/o Hans Hertz Rådjursvägen 16 S-182 79 Stocksund (SE) (Tous Sauf US).
HERTZ, Hans [SE/SE]; (SE) (US Seulement).
HEMBERG, Oscar [SE/SE]; (SE) (US Seulement)
Inventeurs : HERTZ, Hans; (SE).
HEMBERG, Oscar; (SE)
Mandataire : AWAPATENT AB; Box 45086 S-104 30 Stockholm (SE)
Données relatives à la priorité :
0002785-4 28.07.2000 SE
0003073-4 31.08.2000 SE
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR GENERATING X-RAY OR EUV RADIATION
(FR) PROCEDE ET APPAREIL PERMETTANT DE GENERER DES RAYONS X OU UV EXTREMES
Abrégé : front page image
(EN)In a method and an apparatus for generating X-ray or EUV radiation, an electron beam is brought to interact with a propagating target jet, typically in a vacuum chamber. The target jet is formed by urging a liquid substance under pressure through an outlet opening. Hard X-ray radiation may be generated by converting the electron-beam energy to Bremsstrahlung and characteristic line emission, essentially without heating the jet to a plasma-forming temperature. Soft X-ray or EUV radiation may be generated by the electron beam heating the jet to a plasma-forming temperature.
(FR)L'invention concerne un procédé et un appareil permettant de générer des rayons X ou UV extrêmes. Selon ce procédé, on provoque l'interaction d'un faisceau électronique et d'un jet cible de propagation généralement dans une chambre sous vide. Le jet cible est constitué d'une substance liquide sous pression expulsée par un orifice de sortie. On peut générer des rayons X durs par conversion de l'énergie du faisceau électronique en émission d'un rayonnement de freinage et d'une ligne caractéristique principalement sans chauffer le jet à une température produisant du plasma. On peut générer des rayons X ou UV extrêmes à faible énergie en chauffant, par le faisceau électronique, le jet à une température produisant du plasma.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)