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1. (WO2002010223) PROCEDE DE SYNTHESE DE POLYMERES A BLOCS PAR POLYMERISATION RADICALAIRE CONTROLEE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/010223    N° de la demande internationale :    PCT/FR2001/002374
Date de publication : 07.02.2002 Date de dépôt international : 20.07.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    14.02.2002    
CIB :
C08F 2/38 (2006.01), C08F 293/00 (2006.01)
Déposants : RHODIA CHIMIE [FR/FR]; 26, quai Alphonse Le Gallo F-92512 Boulogne Billancourt Cedex (FR) (Tous Sauf US).
DESTARAC, Mathias [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
LEISING, Frédéric [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
GNANOU, Yves [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
TATON, Daniel [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
DUREAULT, Alex [FR/FR]; (FR) (US Seulement)
Inventeurs : DESTARAC, Mathias; (FR).
LEISING, Frédéric; (FR).
GNANOU, Yves; (FR).
TATON, Daniel; (FR).
DUREAULT, Alex; (FR)
Mandataire : DELENNE, Marc; Rhodia Services Direction de la Propriété Industrielle 40, rue de la Haie-Coq F-93306 Aubervilliers Cedex (FR)
Données relatives à la priorité :
00/09952 28.07.2000 FR
Titre (EN) METHOD FOR SYNTHESIS OF BLOCK POLYMERS BY CONTROLLED FREE RADICAL POLYMERISATION
(FR) PROCEDE DE SYNTHESE DE POLYMERES A BLOCS PAR POLYMERISATION RADICALAIRE CONTROLEE
Abrégé : front page image
(EN)The invention concerns a method for preparing a first generation polymer comprising a step which consists in free radical polymerisation of a composition comprising: at least an ethylenically unsaturated monomer, a source of free radicals, at least a dithiophosphoroester compound.
(FR)La présente invention concerne un procédé de préparation d'un polymère de première génération qui comprend une étape de polymérisation radicalaire d'une composition comprenant: au moins un monomère éthyléniquement insaturé, une source de radicaux libres, et au moins un composé dithiophosphoester.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)