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1. (WO2002008834) COMPOSITIONS RADIOSENSIBLES CONTENANT DES ADDITIFS D'AMELIORATION D'IMAGE ET DE PROFIL
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/008834    N° de la demande internationale :    PCT/US2001/013294
Date de publication : 31.01.2002 Date de dépôt international : 25.04.2001
CIB :
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01)
Déposants : ARCH SPECIALTY CHEMICALS, INC. [US/US]; 501 Merrit 7 P.O. Box 4500 Norwalk, CT 06856-4500 (US)
Inventeurs : TOUKHY, Medhat, A.; (US).
McCORMICK, Gail; (US).
MARSHALL, Jacqueline, M.; (US).
BLAKENEY, Andrew, J.; (US)
Mandataire : GREELEY, Paul, D.; Ohlandt, Greeley, Ruggiero & Perle, L.L.P. One Landmark Square, 10th Floor Stamford, CT 06901-2682 (US)
Données relatives à la priorité :
09/620,384 20.07.2000 US
Titre (EN) RADIATION SENSITIVE COMPOSITIONS CONTAINING IMAGE QUALITY AND PROFILE ENHANCEMENT ADDITIVES
(FR) COMPOSITIONS RADIOSENSIBLES CONTENANT DES ADDITIFS D'AMELIORATION D'IMAGE ET DE PROFIL
Abrégé : front page image
(EN)The present invention is a radiation sensitive composition that includes a polymer resin, a photoacid generator, a solvent, and a heterocyclic additive selected from the group consisting of: compounds of the formulas (I), (II), (III), and (IV): where R1 is H, -NH2-, -OH, -N(CH3)2, -NH-CO-CH3, or (II) where R2 is CH3 or benzoyl; (III) where R3 is H, or C1-C4 alkyl; W, X, Y, and Z are each independently selected from CH2-, -C-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -NH-, or N(CH3)-, with the proviso that at least one of W, X, Y, or Z is C-, and at least one of W, X, Y, or Z is NH- or N(CH3)-; (IV) where A is CH= or C-; R4 is H, -CH3, or CH2-CH(CH3)2; R5 is H, -CH3, or CH2-CH(OH)-CH2(OH); R6 is H; B and D are identical and selected from C- or CH-; one p and q is 0 and the other p and q is 1, when A is CH=; and p and q are both 1, when A is C-; and mixtures thereof.
(FR)L'invention concerne une composition radiosensible comprenant une résine polymère, un générateur, un solvant et un additif hétérocyclique choisi dans le groupe constitué: de composés représentés par les formules (I), dans laquelle (I) R1 représente H, -NH2-, -OH, -N(CH3)2, -NH-CO-CH3, (II) dans laquelle R2 représente CH3 ou benzoyle; (III) dans laquelle R3 représente H, ou alkyle C1-C4; W, X, Y et Z sont chacun indépendamment choisis dans le groupe constitué de CH2-, -C-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -NH-, ou N(CH3)-, à la condition qu'au moins un parmi W, X, Y ou Z représente C-, et au moins un parmi W, X, Y ou Z représente NH- ou N(CH3)-; (IV) dans laquelle A représente CH= ou C-; R4 représente H, -CH3, ou CH2-CH(CH3)2; R5 représente H, -CH3 ou CH2-CH(OH)-CH2(OH); R6 représente H; B et D sont identiques et choisis dans le groupe constitué de C- ou CH-; un p et un q valent 0 et l'autre p et l'autre q valent 1, lorsque A représente CH=; et p et q valent 1, lorsque A représente C- ; et de mélanges desdits composés.
États désignés : JP, KR, SG.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)