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1. (WO2002008711) PROCEDE DE PRODUCTION D'UN COMPOSANT A COUCHE MINCE, NOTAMMENT UN CAPTEUR DE HAUTE PRESSION A COUCHE MINCE ET COMPOSANT A COUCHE MINCE CORRESPONDANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/008711    N° de la demande internationale :    PCT/DE2001/002768
Date de publication : 31.01.2002 Date de dépôt international : 25.07.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    19.01.2002    
CIB :
G01L 9/00 (2006.01)
Déposants : ROBERT BOSCH GMBH [DE/DE]; Postfach 30 02 20, 70442 Stuttgart (DE) (Tous Sauf US).
GOEBEL, Herbert [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
WANKA, Harald [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
KRETSCHMANN, André [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
HENN, Ralf [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
GLÜCK, Joachim [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
MUENZEL, Horst [DE/DE]; (AU) (US Seulement)
Inventeurs : GOEBEL, Herbert; (DE).
WANKA, Harald; (DE).
KRETSCHMANN, André; (DE).
HENN, Ralf; (DE).
GLÜCK, Joachim; (DE).
MUENZEL, Horst; (AU)
Données relatives à la priorité :
100 36 285.0 26.07.2000 DE
101 35 216.6 24.07.2001 DE
Titre (DE) HERSTELLUNGSVERFAHREN FÜR EIN DÜNNSCHICHT-BAUELEMENT, INSBESONDERE EINEN DÜNNSCHICHT-HOCHDRUCKSENSOR, UND DÜNNSCHICHTBAUELEMENT
(EN) PRODUCTION METHOD FOR A THIN-LAYER COMPONENT, ESPECIALLY A THIN-LAYER HIGH PRESSURE SENSOR, AND CORRESPONDING THIN-LAYER COMPONENT
(FR) PROCEDE DE PRODUCTION D'UN COMPOSANT A COUCHE MINCE, NOTAMMENT UN CAPTEUR DE HAUTE PRESSION A COUCHE MINCE ET COMPOSANT A COUCHE MINCE CORRESPONDANT
Abrégé : front page image
(DE)Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines Dünnschicht-Bauelements, insbesondere eines Dünnschicht-Hochdrucksensors, sowie ein Dünnschichtbauelement vorgeschlagen, bei dem auf einer elektrisch nicht leitfähigen Oberfläche einer Membranschicht (10, 20) eine Widerstandsschicht zur Ausbildung von Messelementen, insbesondere Dehnmessstreifen (30), aufgebracht ist, wobei ein Kontaktschichtsystem (41) zur elektrischen Kontaktierung der Messelemente derart auf den Messelementen aufgetragen ist, dass sich zwischen jedem Bereich des Kontaktschichtsystems und der Membranschicht (10, 20) Bereiche der Messelemente (30) befinden. Dies dient zur Bereitstellung insbesondere eines Hochdrucksensors mit symmetrisch ausgestalteten Kapazitäten der Kontakte des Kontaktschichtsystems.
(EN)The invention relates to a method for producing a thin-layer component, especially a thin-layer high pressure sensor, and to a corresponding thin-layer component. According to the invention, a resistance layer for forming measuring elements, especially strain gauges (30), is applied to an electrically non-conductive surface of a membrane layer (10, 20), whereby a contact layer system (41) for electrically contacting the measuring elements is applied to the measuring elements in such a manner that areas of the measuring elements (30) are situated between each area of the contact layer system and the membrane layer (10, 20). This serves to provide, in particular, a high pressure sensor with symmetrically configured capacitances of the contacts of the contact layer system.
(FR)L'invention concerne un procédé permettant de produire un composant à couche mince, notamment un capteur de haute pression à couche mince, ainsi qu'un composant à couche mince. Selon l'invention, une couche résistive est appliquée sur une surface non électroconductrice d'une couche membranaire (10,20), pour former des éléments de mesure (10,20), notamment des extensomètres à résistance (30). Un système de couche de contact (41) prévu pour une mise en contact électrique des éléments de mesure est appliqué sur lesdits éléments de mesure, de manière que des zones des éléments de mesure (30) se trouvent entre chaque zone du système de couche de contact et la couche membranaire (10,20). Cette mesure sert à mettre au point notamment un capteur de haute pression avec des capacités de structure symétrique des contacts du système de couche de contact.
États désignés : JP, US.
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)