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1. (WO2002008347) COMPOSITION D'ENCRE DE RÉSERVE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2002/008347 N° de la demande internationale : PCT/JP2001/006309
Date de publication : 31.01.2002 Date de dépôt international : 19.07.2001
CIB :
G03F 7/038 (2006.01) ,H05K 1/00 (2006.01) ,H05K 3/28 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
038
Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
K
CIRCUITS IMPRIMÉS; ENVELOPPES OU DÉTAILS DE RÉALISATION D'APPAREILS ÉLECTRIQUES; FABRICATION D'ENSEMBLES DE COMPOSANTS ÉLECTRIQUES
1
Circuits imprimés
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
K
CIRCUITS IMPRIMÉS; ENVELOPPES OU DÉTAILS DE RÉALISATION D'APPAREILS ÉLECTRIQUES; FABRICATION D'ENSEMBLES DE COMPOSANTS ÉLECTRIQUES
3
Appareils ou procédés pour la fabrication de circuits imprimés
22
Traitement secondaire des circuits imprimés
28
Application de revêtements de protection non métalliques
Déposants : WATANABE, Takeo[JP/JP]; JP (UsOnly)
SATO, Takashi[JP/JP]; JP (UsOnly)
TAGOSHI, Hirotaka[JP/JP]; JP (UsOnly)
SHOWA DENKO K. K.[JP/JP]; 13-9, Shiba Daimon 1-chome Minato-ku, Tokyo 105-8518, JP (AllExceptUS)
Inventeurs : WATANABE, Takeo; JP
SATO, Takashi; JP
TAGOSHI, Hirotaka; JP
Mandataire : ISHIDA, Takashi ; A. AOKI, ISHIDA & ASSOCIATES Toranomon 37 Mori Bldg., 5-1, Toranomon 3-chome Minato-ku, Tokyo 105-8423, JP
Données relatives à la priorité :
2000-21999721.07.2000JP
60/246,59608.11.2000US
Titre (EN) RESIST INK COMPOSITION
(FR) COMPOSITION D'ENCRE DE RÉSERVE
Abrégé :
(EN) The present invention provides a resist ink composition comprising a compound (a) having at least one oxetanyl group and at least one epoxy group within the same molecule and a compound (b) capable of initiating cationic polymerization under irradiation by an active energy ray and/or under heat. This resist ink composition has high photosensitivity and enables the final curing by a brief heating and the cured film exhibits good physical properties.
(FR) La présente invention concerne une composition d'encre de réserve comprenant un composé (a) qui comporte un au moins un groupe oxétanyle et au moins un groupe époxy dans la même molécule, et un composé (b) capable de déclencher une polymérisation cationique lorsqu'il est irradié par un rayon d'énergie active et/ou de la chaleur. Cette composition d'encre de réserve se caractérise par une photosensibilité élevée et un durcissement final obtenue après un rapide chauffage, le film durci possédant de bonnes propriétés physiques.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)