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1. (WO2002006890) PROCEDE DE PRODUCTION D'UN FILM CRISTALLIN ORGANIQUE OPTIQUE NON LINEAIRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/006890    N° de la demande internationale :    PCT/US2001/022208
Date de publication : 24.01.2002 Date de dépôt international : 13.07.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    13.02.2002    
CIB :
G02F 1/065 (2006.01), G02F 1/361 (2006.01)
Déposants : REVEO, INC. [US/US]; 85 Executive Boulevard Elmsford, NY 10523 (US) (Tous Sauf US).
XU, Jianjun [US/US]; (US) (US Seulement).
FAN, Bunsen [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : XU, Jianjun; (US).
FAN, Bunsen; (US)
Mandataire : SAMPSON, Richard, L.; Sampson & Associates, P.C. Suite 519 50 Congress Street Boston, MA 02109 (US).
BRILL, Gerow, D.; Reveo, Inc. 85 Executive Boulevard Elmsford, NY 10523 (US)
Données relatives à la priorité :
60/219,099 18.07.2000 US
09/905,326 12.07.2001 US
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING NON-LINEAR OPTICAL ORGANIC CRYSTAL FILM
(FR) PROCEDE DE PRODUCTION D'UN FILM CRISTALLIN ORGANIQUE OPTIQUE NON LINEAIRE
Abrégé : front page image
(EN)Methods for fabricating a non-linear optical (NLO) film and a NLO film structure produced thereby are provided. The methods include depositing an alignment layer material on at least one surface of a substrate, aligning the molecules of the alignment layer material in a substantially uniaxial direction, and depositing a NLO film on the alignment layer material. The methods may be advantageous in that they tend to produce NLO films having relatively strong NLO properties. The methods may be further advantageous in that they are relatively simple and may be applied to a wide range of organic NLO materials.
(FR)L'invention concerne des procédés de fabrication d'un film non linéaire optique (NLO) ainsi qu'une structure de film NLO ainsi produite. Ces procédés consistent à déposer un matériau de couche d'alignement sur au moins une surface d'un substrat, à aligner les molécules du matériau de couche d'alignement dans une direction essentiellement uniaxiale, et à déposer un film NLO sur le matériau de couche d'alignement. Ces procédés peuvent être avantageux en ce qu'ils ont tendance à permettre d'obtenir des films NLO possédant des propriétés NLO relativement fortes. Ces procédés peuvent également être avantageux en ce qu'ils sont relativement simples et peuvent être appliqués à une large plage de matériaux NLO organiques.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)