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1. (WO2002006559) PROCEDE DE FABRICATION DE COUCHES DE CARBONE APTES A EMETTRE DES ELECTRONS, PAR DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/006559    N° de la demande internationale :    PCT/FR2001/002304
Date de publication : 24.01.2002 Date de dépôt international : 16.07.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    17.01.2002    
CIB :
C23C 16/26 (2006.01), C23C 16/509 (2006.01)
Déposants : COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE [FR/FR]; 31/33, rue de la Fédération F-75752 PARIS 15ème (FR) (Tous Sauf US).
SEMERIA, Marie-Noëlle [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
BAYLET, Jacques [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
FOURNIER, Adeline [FR/FR]; (FR) (US Seulement)
Inventeurs : SEMERIA, Marie-Noëlle; (FR).
BAYLET, Jacques; (FR).
FOURNIER, Adeline; (FR)
Mandataire : DES TERMES, Monique; Brevatome 3, rue du Docteur Lancereaux F-75008 Paris (FR)
Données relatives à la priorité :
00/09309 17.07.2000 FR
Titre (EN) METHOD FOR MAKING CARBON FILMS CAPABLE OF EMITTING ELECTRONS, BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION
(FR) PROCEDE DE FABRICATION DE COUCHES DE CARBONE APTES A EMETTRE DES ELECTRONS, PAR DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR
Abrégé : front page image
(EN)The invention concerns a method for making a carbon film capable of emitting electrons, under the action of an electric field, by plasma chemical vapour deposition. It consists in performing the process in a sealed chamber (1) comprising a first electrode (3) supporting a substrate (7) and a second electrode (5); introducing in the chamber proximate to the second electrode (in 11) a gas mixture containing a carbonaceous gas, under pressure ranging from 0.13 to 13.33 Pa; heating the substrate to a temperature ranging between 300 to 800 °C, and applying a radiofrequency power to the second electrode (5) to produce a plasma (21) by ionizing the gas mixture and in depositing on the carbon substrate in the form of carbon nanostructures curved sheets with radius of curvature ranging between 2 and 50 nm.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'une couche de carbone apte à émettre des électrons, sous l'action d'un champ électrique, par dépôt chimique en phase vapeur assisté par un plasma. On opère dans une enceinte étanche (1) comportant une première électrode (3) supportant un substrat (7) et une seconde électrode (5), on introduit dans l'enceinte au voisinage de la seconde électrode (en 11) un mélange gazeux contenant un gaz carboné, sous une pression de 0,13 à 13,33 Pa, on chauffe le substrat (7) à une température de 300 à 800 °C et on applique une puissance radiofréquence à la seconde électrode (5) pour produire un plasma (21) par ionisation du mélange gazeux et déposer sur le substrat du carbone sous la forme de nanostructures de carbone formées de feuillets de graphite courbés de rayon de courbure allant de 2 à 50 nm.
États désignés : JP, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)