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1. (WO2002005946) TETE D'INJECTION ET DE DOSAGE THERMIQUE, SON PROCEDE DE FABRICATION ET SYSTEME DE FONCTIONNALISATION OU D'ADRESSAGE LA COMPRENANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/005946    N° de la demande internationale :    PCT/FR2001/002274
Date de publication : 24.01.2002 Date de dépôt international : 12.07.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    29.01.2002    
CIB :
B01J 19/00 (2006.01), B01L 3/02 (2006.01), B41J 2/14 (2006.01), B41J 2/16 (2006.01), G01N 35/10 (2006.01)
Déposants : CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE [FR/FR]; 3, rue Michel Ange F-75794 Paris Cedex 16 (FR) (Tous Sauf US).
GUE, Anne-Marie [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
ESTEVE, Daniel [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
CONEDERA, Véronique [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
FABRE, Norbert [FR/FR]; (FR) (US Seulement)
Inventeurs : GUE, Anne-Marie; (FR).
ESTEVE, Daniel; (FR).
CONEDERA, Véronique; (FR).
FABRE, Norbert; (FR)
Mandataire : DES TERMES, Monique; BREVATOME 03, rue du Docteur Lancereaux F-75008 Paris (FR)
Données relatives à la priorité :
00/09195 13.07.2000 FR
Titre (EN) THERMAL INJECTION AND PROPORTIONING HEAD, METHOD FOR MAKING SAME AND FUNCTIONALISING OR ADDRESSING SYSTEM COMPRISING SAME
(FR) TETE D'INJECTION ET DE DOSAGE THERMIQUE, SON PROCEDE DE FABRICATION ET SYSTEME DE FONCTIONNALISATION OU D'ADRESSAGE LA COMPRENANT
Abrégé : front page image
(EN)The invention concerns an injecting and proportioning head, with at least a thermal injection and proportioning device to supply a specific amount of liquid, comprising: a recessed planar substrate (21) forming a liquid reservoir and covered, sequentially, with a non-stressed dielectric insulating membrane (22, 23) with high thermal resistance, then an etched semiconductor layer forming a heating resistor (25); said membrane and said semiconductor layer being traversed by an orifice (24) in fluid communication with the reservoir; a photolithographic resin layer in the form of a nozzle (27) on said membrane, the channel (28) of said nozzle being located in the extension of said orifice and the volume of said channel enabling to control the specific amount of liquid to be supplied. The invention also concerns a method for making said head. The method further comprises a functionalising or addressing system in particular for chemical and biological microreactors comprising such a head.
(FR)Tête d'injection et de dosage, avec au moins un dispositif d'injection et de dosage thermique pour fournir une quantité déterminée de liquide, comprenant : - un substrat plan évidé (21) formant réservoir de liquide et recouvert, dans l'ordre, d'une membrane isolante diélectrique (22, 23) non contrainte de résistance thermique élevée, puis d'une couche semi-conductrice gravée formant résistance chauffante (25) ;- ladite membrane et ladite couche semi-conductrice étant traversées par un orifice (24) en communication fluidique avec ledit réservoir de liquide ;- une couche de résine photolithographiée en forme de buse (27) sur ladite membrane, le canal (28) de ladite buse se situant dans le prolongement dudit orifice et le volume dudit canal permettant de contrôler la quantité déterminée de liquide à fournir. Procédé de fabrication de cette tête. Système de fonctionnalisation ou d'adressage notamment de microréacteurs chimiques ou biochimiques comprenant cette tête.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)