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1. (WO2002005308) REACTEUR A PLASMA A ANTENNE A ENROULEMENTS DE CONDUCTEURS PARALLELES ET SYMETRIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/005308    N° de la demande internationale :    PCT/US2001/020717
Date de publication : 17.01.2002 Date de dépôt international : 29.06.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    18.01.2002    
CIB :
H01J 37/32 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; P.O. Box 450A Santa Clara, CA 95052 (US)
Inventeurs : HOLLAND, John; (US).
TODOROW, Valentin, N.; (US).
BARNES, Michael; (US)
Mandataire : BERNADICOU, Michael, A.; Blakely, Sokoloff, Taylor & Zafman LLP 12400 Wilshire Boulevard 7th floor Los Angeles, CA 90025 (US)
Données relatives à la priorité :
09/610,800 06.07.2000 US
09/611,168 06.07.2000 US
09/611,345 06.07.2000 US
09/611,169 06.07.2000 US
09/611,170 06.07.2000 US
Titre (EN) A PLASMA REACTOR HAVING A SYMMETRIC PARALLEL CONDUCTOR COIL ANTENNA
(FR) REACTEUR A PLASMA A ANTENNE A ENROULEMENTS DE CONDUCTEURS PARALLELES ET SYMETRIQUES
Abrégé : front page image
(EN)The invention in one embodiment is realized in a plasma reactor for processing a semiconductor workpiece. The reactor includes a vacuum chamber having a side wall and a ceiling, a workpiece support pedestal within the chamber and generally facing the ceiling, a gas inlet capable of interleaved parallel conductor coil antenna overlying the ceiling and including a first plurality conductors wound about an axis of symmetry generally perpendicular to the ceiling in respective concentric helical solenoids of at least nearly uniform lateral displacements from the axis of symmetry, each helical solenoid being offset from the other helical solenoids in a direction parallel to the axis of symmetry. A RF plasma source power supply is connected across each of the plural conductors. In another embodiment, the antenna is a solenoidal segmented parallel conductor coil antenna overlying the ceiling and including a first plurality conductors wound about an axis of symmetry generally perpendicular to the ceiling in respective concentric side-by-side helical solenoids, each helical solenoid being offset by a distance on the order of a conductor width of the plurality of conductors from teh nearest other helical solenoids in a direction perpendicular to the axis of symmetry, whereby each helical solenoid has slightly different diameter.
(FR)Un mode de réalisation de la présente invention concerne un réacteur à plasma destiné au traitement de pièce de semiconducteur. Ce réacteur comprend une chambre à vide possédant une paroi latérale et une paroi supérieure, un piédestal support de pièce placé à l'intérieur de la chambre à vide et généralement en face de la paroi supérieure, un orifice d'entrée de gaz qui peut fournir un gaz de traitement dans la chambre et une antenne à enroulements de conducteurs parallèles entrelacés de solénoïde surplombant la paroi supérieure et comprenant une première pluralité de conducteurs enroulés autour d'un axe de symétrie généralement perpendiculaire à la paroi supérieure en solénoïdes hélicoïdes concentriques respectives à déplacements latéral au moins presque uniforme par rapport à cet axe de symétrie, chaque solénoïde hélicoïde étant décalée par rapport aux autres parallèlement à l'axe de symétrie. Une alimentation d'énergie source hyperfréquence à plasma est connectée à chacun des conducteurs. Dans un autre mode de réalisation de l'invention, l'antenne est une antenne à enroulements de conducteurs parallèles et segmentés de solénoïde surplombant la paroi supérieure et comprenant une première pluralité de conducteurs enroulés autour d'un axe de symétrie généralement perpendiculaire à cette paroi supérieure en solénoïdes respectives hélicoïdales concentriques placées côte à côte. Chaque solénoïde est décalée d'une distance de l'ordre d'une largeur de conducteur, en partant des autres solénoïdes hélicoïdes les plus proches perpendiculairement à l'axe de symétrie, et chaque solénoïde hélicoïdale possède un diamètre légèrement différent.
États désignés : JP.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)