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1. (WO2002004993) RESEAU DE PHASE DE DIFFRACTION MICROMECANIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/004993    N° de la demande internationale :    PCT/US2001/021100
Date de publication : 17.01.2002 Date de dépôt international : 03.07.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    18.01.2002    
CIB :
G02B 26/08 (2006.01)
Déposants : INTEL CORPORATION [US/US]; 2200 Mission College Boulevard Santa Clara, CA 95052 (US) (Tous Sauf US).
CHUNG, David [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : CHUNG, David; (US)
Mandataire : TROP, Timothy, N.; Trop, Pruner & Hu, P.C. Suite 100 8554 Katy Freeway Houston, TX 77024 (US)
Données relatives à la priorité :
09/613,119 10.07.2000 US
Titre (EN) MICROMECHANICAL DIFFRACTION PHASE GRATING
(FR) RESEAU DE PHASE DE DIFFRACTION MICROMECANIQUE
Abrégé : front page image
(EN)A micromechanical reflection phase grating may be formed of spring-like ribbon reflectors that are secured to a transparent cover positioned over a substrate such as a silicon substrate. The ribbon reflectors are formed independently of the silicon substrate. If a defect occurs in the phase grating and particularly the ribbon reflectors, the top plate assembly can be reworked or discarded without sacrificing the relatively expensive silicon substrate.
(FR)La présente invention concerne un réseau de phase de diffraction micromécanique qui peut être formé de déflecteurs en bande de type ressort fixés sur un boîtier transparent positionné sur un substrat tel qu'un substrat de silice. Ces déflecteurs en bande sont formés indépendamment du substrat de silice. Si un défaut survient dans le réseau de phase et en particulier dans les déflecteurs en bande, l'ensemble plaque supérieure peut être retravaillé ou rejeté sans qu'il soit nécessaire de sacrifier le substrat qui est relativement onéreux.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)