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1. (WO2002002707) COMPOSITION DE POLISSAGE A BASE DE SILANE POUR POLISSAGE CHIMIQUE MECANIQUE (CMP)
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/002707    N° de la demande internationale :    PCT/US2001/019191
Date de publication : 10.01.2002 Date de dépôt international : 14.06.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    25.01.2002    
CIB :
C09G 1/02 (2006.01), H01L 21/321 (2006.01)
Déposants : CABOT MICROELECTRONICS CORPORATION [US/US]; a Delaware corporation 870 North Commons Drive Aurora, IL 60504 (US)
Inventeurs : GRUMBINE, Steven, K.; (US).
WANG, Shumin; (US).
STREINZ, Christopher, C.; (US).
HOGLUND, Eric, W., G.; (US)
Mandataire : TURNER-BRIM, Phyllis, T.; Law Department Cabot Microelectronics Corporation 870 North Commons Aurora, IL 60504 (US)
Données relatives à la priorité :
09/609,480 05.07.2000 US
Titre (EN) SILANE CONTAINING POLISHING COMPOSITION FOR CMP
(FR) COMPOSITION DE POLISSAGE A BASE DE SILANE POUR POLISSAGE CHIMIQUE MECANIQUE (CMP)
Abrégé : front page image
(EN)Polishing compositions comprising at least one soluble silane compound and at least one abrasive that are useful for polishing substrate surface features.
(FR)L'invention concerne des compositions de polissage comprenant au moins un composé soluble à base de silane et au moins un abrasif, utiles pour le polissage de reliefs de substrats.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)