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1. (WO2002002682) COMPOSITE DE POLYPROPYLENE ET D'ARGILE ET PROCEDE DE PRODUCTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/002682    N° de la demande internationale :    PCT/KR2001/001098
Date de publication : 10.01.2002 Date de dépôt international : 27.06.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    30.10.2001    
CIB :
C08K 9/08 (2006.01), C08L 23/10 (2006.01), C08L 51/06 (2006.01)
Déposants : SAMSUNG GENERAL CHEMICALS CO. LTD. [KR/KR]; San 222-2, Dokgod-Ri Daesan-Up Seosan 356-711 (KR) (Tous Sauf US).
LEE, Yoon, Hwan [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
JUNG, Won, Beum [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
YUN, Dae, Young [KR/KR]; (KR) (US Seulement)
Inventeurs : LEE, Yoon, Hwan; (KR).
JUNG, Won, Beum; (KR).
YUN, Dae, Young; (KR)
Mandataire : KIM, Hak,Je; Kwangwhamoon P.O.Box 1828 Seoul 110-618 (KR)
Données relatives à la priorité :
2000/37082 30.06.2000 KR
Titre (EN) POLYPROPYLENE-CLAY COMPOSITE AND PRODUCING METHOD THEREOF
(FR) COMPOSITE DE POLYPROPYLENE ET D'ARGILE ET PROCEDE DE PRODUCTION
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to polypropylene-clay composite comprising (a) denatured polypropylene which contains a functional group, 10$m(k)30 wt %; (b) organic layered clay which is connected to the functional group of denatured polypropylene, 10$m(k)20 wt %; and (c) polyolefin resin matrix in which the denatured polypropylene and organic layered clay are diffused, 50$m(k)98wt %.
(FR)Composite de polypropylène et d'argile qui contient (a) 10 à 30 % en poids de propylène dénaturé refermant un groupe fonctionnel, (b) 10 à 20 % en poids d'argile stratifiée organique qui est liée au groupe fonctionnel du polypropylènde dénaturé et (c) 50 à 98 % en poids d'une matrice de résine polyoléfinique dans laquelle le polypropylène dénaturé et l'argile organique stratifiée sont diffus.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : coréen (KO)