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1. (WO2002001618) SYSTEME ET PROCEDE DE RECYCLAGE DE BOUES POUR APPAREIL DE POLISSAGE CHIMICO-MECANIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/001618    N° de la demande internationale :    PCT/KR2001/001095
Date de publication : 03.01.2002 Date de dépôt international : 27.06.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    25.01.2002    
CIB :
B24B 37/04 (2012.01), B24B 57/02 (2006.01)
Déposants : NYMTECH CO., LTD. [KR/KR]; 119 Sipjeong 1-dong Bupyeong-gu Incheon 403-843 (KR) (Tous Sauf US).
CHANG, Jung, Hoon [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
LEE, Kwang, Jun [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
PARK, Jin, Goo [KR/KR]; (KR) (US Seulement)
Inventeurs : CHANG, Jung, Hoon; (KR).
LEE, Kwang, Jun; (KR).
PARK, Jin, Goo; (KR)
Mandataire : JANG, Seong, Ku; 17th Fl., KEC Building 275-7, Yangjae-dong Seocho-ku Seoul 137-130 (KR)
Données relatives à la priorité :
2000/35746 27.06.2000 KR
2000/35747 27.06.2000 KR
Titre (EN) SLURRY RECYCLING SYSTEM AND METHOD FOR CMP APPARATUS
(FR) SYSTEME ET PROCEDE DE RECYCLAGE DE BOUES POUR APPAREIL DE POLISSAGE CHIMICO-MECANIQUE
Abrégé : front page image
(EN)A slurry recycling system for use in a chemical mechanical polishing (CMP) apparatus for polishing a workpiece by using a slurry containing an abrasive, a pH agent and a deionized water is provided. The slurry recycling system includes a slurry collection tank for storing the slurry used in the CMP apparatus as a recyclable slurry; an ultra filter for separating, from the recyclable slurry, a fluid ingredient containing the pH agent and the deionized water and the abrasive to allow the abrasive to be reintroduced into the slurry collection tank; and a reverse osmosis filter for separating, from the fluid ingredient, the pH agent and the deionized water to allow the pH agent to be reintroduced into the slurry collection tank and to allow the deionized water to be discharged out.
(FR)L'invention concerne un système de recyclage de boues destinées à être utilisées dans un appareil de polissage chimico-mécanique (CMP) afin de polir une pièce à usiner à l'aide d'une boue contenant un abrasif, un agent de pH ainsi qu'une eau desionisée. Le système de recyclage de boues comprend un réservoir de collecte de boues destiné à stocker la boue utilisée dans l'appareil CMP se présentant sous la forme d'une boue recyclable; un ultrafiltre destiné à séparer, à partir de la boue recyclable, un ingrédient fluide contenant l'agent de pH ainsi que l'eau desionisée et l'abrasif pour permettre de réintroduire l'abrasif dans le réservoir de collecte de boues; ainsi qu'un filtre à osmose inverse destiné à séparer de l'ingrédient fluide l'agent de pH ainsi que l'eau desionisée pour permettre de réintroduire l'agent de pH dans le réservoir de collecte de boues et pour permettre de décharger l'eau desionisée.
États désignés : CN, JP, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : coréen (KO)