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1. (WO2002001294) APPAREIL ET PROCEDE PERMETTANT DE CORRIGER DES ECARTS DE DIMENSION CRITIQUE DANS UN PHOTOMASQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/001294    N° de la demande internationale :    PCT/US2001/019337
Date de publication : 03.01.2002 Date de dépôt international : 15.06.2001
CIB :
G03F 1/54 (2012.01), G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), G03F 1/00 (2012.01)
Déposants : KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V. [NL/NL]; Groenewoudseweg 1 NL-5621 BA Eindhoven (NL).
PHILIPS ELECTRONICS NORTH AMERICA CORPORATION [US/US]; 1251 Avenue of the Americas New York, NY 10020-1104 (US) (MC only)
Inventeurs : ZIGER, David, H.; (US)
Mandataire : PENILLA, Albert, S.; Martine & Penilla, LLP Suite 170 710 Lakeway Drive Sunnyvale, CA 94085 (US)
Données relatives à la priorité :
09/606,374 28.06.2000 US
Titre (EN) APPARATUS AND METHOD FOR COMPENSATING CRITICAL DIMENSION DEVIATIONS ACROSS PHOTOMASK
(FR) APPAREIL ET PROCEDE PERMETTANT DE CORRIGER DES ECARTS DE DIMENSION CRITIQUE DANS UN PHOTOMASQUE
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides an apparatus and a method for compensating critical dimension deviations across a photomask. In this method, a photomask is partitioned into a plurality of regions. A critical dimension is then measured for each of the regions in the photomask. Based on the measured critical dimensions, a deviation map is generated to map deviation of the critical dimension from a target dimension for each of the regions in the photomask. From the deviation map, an amount of actinic radiation needed to be attenuated to compensate for the critical dimension deviation from the target dimension is determined for each of the regions of the photomask. Based on the determined attenuation amount of actinic radiation, the transmission of the actinic radiation through each of the regions in the photomask is attenuated such that the critical dimension deviation is compensated to the target dimension for each of the regions in the photomask.
(FR)Cette invention a trait à un appareil et au procédé permettant de corriger des écarts de dimension critique dans un photomasque. On subdivise, dans le cadre de ce procédé, un photomasque en plusieurs régions. On mesure alors une dimension critique pour chacune des régions. D'après ces mesures, on produit un mappage d'écarts afin de mapper les écarts par rapport à la dimension critique à partir d'une dimension cible pour chacune des régions du photomasque. On détermine pour chaque région du photomasque, d'après ce mappage d'écarts, la quantité de radiation actinique nécessaire à réduire afin de corriger l'écart de dimension critique à partir de la dimension cible. D'après la détermination de l'importance de la réduction des radiations actiniques, on réduit celles-ci pour chaque région du photomasque de façon à corriger l'écart de dimension critique pour la ramener à la dimension cible pour chaque région du photomasque.
États désignés : CN, DE, GB, JP, KR.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)