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1. WO2001080297 - APPAREIL DE TRAITEMENT AU PLASMA

Numéro de publication WO/2001/080297
Date de publication 25.10.2001
N° de la demande internationale PCT/JP2001/003245
Date du dépôt international 16.04.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 29.08.2001
CIB
H01J 37/32 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
32Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
CPC
H01J 37/32082
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
32082Radio frequency generated discharge
H01J 37/32532
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32431Constructional details of the reactor
32532Electrodes
Déposants
  • TOKYO ELECTRON LIMITED [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • HIMORI, Shinji [JP]/[JP] (UsOnly)
  • TAKAHASHI, Toshiki [JP]/[JP] (UsOnly)
  • KOMATSU, Takumi [JP]/[JP] (UsOnly)
Inventeurs
  • HIMORI, Shinji
  • TAKAHASHI, Toshiki
  • KOMATSU, Takumi
Mandataires
  • SUZUYE, Takehiko
Données relatives à la priorité
2000-11630418.04.2000JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) PLASMA PROCESSING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT AU PLASMA
Abrégé
(EN)
A plasma processing apparatus for plasma processing using a high-density plasma and adaptable to finer microfabrication comprise an electrode plate provided with an upper electrode having a dielectric member or a cavity and a lower electrode serving as a susceptor and opposed to the upper electrode. The size and dielectric constant of the dielectric member are determined so that resonance may be caused by the frequency of high-frequency power fed to the central portion of the back of the electrode and that the electric field is perpendicular to the electrode plate may be produced so as to reduce the uneveness of the distribution of the electric field over the top surface of the electrode.
(FR)
La présente invention concerne un appareil de traitement au plasma permettant le traitement au plasma par l'intermédiaire de plasma haute densité, et pouvant s'adapter à une microfabrication plus fine. Ledit appareil comprend une plaque d'électrode dotée d'une électrode supérieure présentant un élément diélectrique ou une cavité, et d'une électrode inférieure servant de suscepteur et étant opposée à l'électrode supérieure. La taille et la constante diélectrique de l'élément diélectrique sont déterminés de sorte que la fréquence de la puissance haute fréquence alimentant la partie centrale de l'arrière de l'électrode, peut provoquer la résonance, et de sorte que le champ électrique perpendiculaire à la plaque d'électrode, peut être produit de façon à réduire l'irrégularité de distribution du champ électrique sur la surface supérieure de l'électrode.
Également publié en tant que
US10273000
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