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1. WO2001080289 - SYSTEME DE MESURE DE SUBSTRAT MODULAIRE

Numéro de publication WO/2001/080289
Date de publication 25.10.2001
N° de la demande internationale PCT/NL2001/000293
Date du dépôt international 12.04.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 13.11.2001
CIB
H01L 21/00 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
CPC
H01L 21/6719
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
67011Apparatus for manufacture or treatment
67155Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
6719characterized by the construction of the processing chambers, e.g. modular processing chambers
H01L 21/67196
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
67011Apparatus for manufacture or treatment
67155Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
67196characterized by the construction of the transfer chamber
Déposants
  • NANOPHOTONICS AG [DE]/[DE] (AllExceptUS)
  • RECIF SA [FR]/[FR] (AllExceptUS)
  • ABRAHAM, Michael [DE]/[DE] (UsOnly)
  • RAAIJMAKERS, Ivo, J., M., M. [NL]/[NL] (UsOnly)
  • GAUDON, Alain [FR]/[FR] (UsOnly)
  • ASTEGNO, Pierre [FR]/[FR] (UsOnly)
Inventeurs
  • ABRAHAM, Michael
  • RAAIJMAKERS, Ivo, J., M., M.
  • GAUDON, Alain
  • ASTEGNO, Pierre
Mandataires
  • JORRITSMA, Ruurd
Données relatives à la priorité
PCT/NL00/0024013.04.2000NL
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) MODULAR SUBSTRATE MEASUREMENT SYSTEM
(FR) SYSTEME DE MESURE DE SUBSTRAT MODULAIRE
Abrégé
(EN)
Substrate measurement system including a measurement chamber (30), and a substrate handling chamber (7) possessing substrate transfer means (10) and a substrate container interface (1) arranged to receive a substrate container (8), the handling chamber (7) containing a first interface (50) to connect the measurement chamber (30), the measurement chamber (30) containing a second interface (51) to connect to the handling chamber (7), and the transfer means (10) being arranged to transfer substrates between the container (8) and the measurement chamber (30) through the handling chamber (7), in which system a second measurement chamber (39) is provided, having the same second interface (51) as the first measurement chamber (30) to replace the latter chamber (30).
(FR)
L'invention concerne un système de mesure de substrat comprenant une chambre de mesure (30) et une chambre de manipulation de substrat (7) dotée d'un moyen de transfert de substrat (10) et d'une interface (1) de récipient à substrat conçue pour recevoir un récipient à substrat (8). La chambre de manipulation (7) contient une première interface (50) à relier à la chambre de mesure (30), laquelle (30) contient une seconde interface (51) à relier à la chambre de manipulation (7), et le moyen de transfert (10) étant conçu pour transférer les substrats entre le récipient (8) et la chambre de mesure, à travers la chambre de manipulation (7). Une seconde chambre de mesure (39) possédant la même seconde interface (51) que la chambre de mesure, est prévue dans le système, en remplacement de la chambre (30).
Également publié en tant que
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