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1. WO2001079127 - SUBSTRATS COMPORTANT UNE COUCHE EPAISSE DE MATERIAU GEL, VERRE, VITROCERAMIQUE OU CERAMIQUE INORGANIQUE, PROCEDES DE FABRICATION DE CES SUBSTRATS ET UTILISATION

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[ DE ]

PATENTANSPRÜCHE

1. Verfahren zur Herstellung von Substraten mit mindestens einer Schicht aus anorganischem Gel-, Glas-, Glaskeramik- oder Keramikmaterial, in welchem man eine Beschichtungszusammensetzung, umfassend nanoskalige Teilchen und wasserlösliche organische Flexibilisatoren, auf das Substrat aufbringt und wärmebehandelt.

2. Verfahren nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, daß man die auf das Substrat aufgebrachte Beschichtung durch Wärmebehandlung teilweise oder vollständig verdichtet.

3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß man die auf das Substrat aufgebrachte Beschichtung zu einem Gel trocknet und strukturiert oder die anorganische Gel-, Glas-, Glaskeramik- oder Keramikschicht strukturiert.

4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß man nanoskalige Nichtmetalloxid- und/oder Metalloxid-Teilchen aus der Gruppe SiO2, CeO2, AI2O3, AIOOH, TiO2, ZrO2, SnO2, Sb2O3 und ZnO oder Mischungen oder Mischoxide davon als nanoskalige Teilchen verwendet.

5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtungszusammensetzung zusätzlich Verbindungen von glas- oder keramikbildenden Elementen, Netzwerkwandlern, brechzahlerhöhenden

Komponenten und/oder optisch aktiven Komponenten als Dotierungsmittel enthält.

6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß man einen Flexibilisator aus Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon,

Polyacrylamid, Polyvinylpyridin, Polyallylamin, Polyacrylsäure, Polyvinylacetat, Polymethylmethacrylsäure, Polyethylen-Polyvinylalkohol-Copolymere, Polyethylenglycol, Polypropylenglycol und Poly(4-vinylphenol) verwendet.

7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß man die Beschichtungszusammensetzung durch Sprühen, Tauchen,

Aufschleudern, Fluten, Rakeln, Walzen oder Drucktechniken auf das Substrat aufbringt.

8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß man ein Glas-, Glaskeramik-, Halbleiter- oder Keramiksubstrat verwendet.

9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß man als Substrat Siliciumdioxid, Silicium, dotiertes Siliciumdioxid oder dotiertes Silicium verwendet.

10. Substrat mit mindestens einer Dickschicht aus anorganischem Gel-, Glas-, Glaskeramik- oder Keramikmaterial, erhältlich nach dem Verfahren eines der Ansprüche 1 bis 9.

11. Substrat nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Trockenschichtdicke der anorganischen Gel- Glas-, Glaskeramik- oder Keramikschicht mindestens 1 μm beträgt.

12. Substrat nach Anspruch 10 und 11 , dadurch gekennzeichnet, daß die anorganische Schicht transparent ist.

13. Verwendung eines Substrats nach einem der Ansprüche 10 bis 12 als optisches, optoelektronisches, elektronisches, mikromechanisches oder schmutzabweisendes Bauteil.