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1. (WO2001078904) APPAREIL ET PROCEDE DE MASQUAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/078904    N° de la demande internationale :    PCT/US2001/012195
Date de publication : 25.10.2001 Date de dépôt international : 13.04.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    14.11.2001    
CIB :
B05B 15/04 (2006.01), B05C 17/06 (2006.01)
Déposants : ONE HEART...ONE MIND [US/US]; 10608 Widmer Lenexa, KS 66215 (US) (Tous Sauf US).
SPEAKMAN, Becki [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : SPEAKMAN, Becki; (US)
Mandataire : HAMMOND, Jennifer, H.; Sonnenschein Nath & Rosenthal P.O. Box #061080 Wacker Drive Station Sears Tower Chicago, IL 60606-1080 (US)
Données relatives à la priorité :
09/549,445 14.04.2000 US
Titre (EN) MASKING APPARATUS AND METHOD
(FR) APPAREIL ET PROCEDE DE MASQUAGE
Abrégé : front page image
(EN)A masking apparatus and method includes a substrate fabricated to include a mask (15) removable affixed to a backing (20). A plurality of designs may be formed in the apparatus by conventional methods. The mask may be cut into variable lengths and thereafter removably attached to a working surface. A transfer medium may be applied to the mask and the working surface to transfer both positive and negative images of the mask onto the working surface.
(FR)La présente invention concerne un appareil et un procédé de masquage. Selon cette invention, un substrat comprenant un masque (15) apposé de manière amovible sur une pellicule protectrice (20) est produit. Plusieurs dessins peuvent être produits dans ledit appareil, selon des procédés classiques. Le masque peut être découpé selon des longueurs variables, puis être fixé de manière amovible sur une surface de travail. Un support de transfert peut être appliqué sur le masque et sur la surface de travail, afin de transférer à la fois l'image négative et l'image positive du masque sur la surface de travail.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)