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1. (WO2001077409) PROCEDE D'ACTIVATION SELECTIVE A BASE METALLIQUE DE SURFACES DE SUBSTRATS POUR LE DEPOT METALLIQUE PAR VOIE CHIMIQUE HUMIDE SANS COURANT EXTERIEUR ET MOYEN CORRESPONDANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/077409    N° de la demande internationale :    PCT/EP2001/004195
Date de publication : 18.10.2001 Date de dépôt international : 11.04.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    07.11.2001    
CIB :
B01J 13/04 (2006.01), C23C 18/16 (2006.01), C23C 18/30 (2006.01), H05K 3/18 (2006.01)
Déposants : FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. [DE/DE]; Leonrodstrasse 54 80636 München (DE) (Tous Sauf US).
LANGE, Stephan [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
GALIUS, Veniamin [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
FIEDLER, Stephan [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
HANNEMANN, Monika [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
SCHEELL, Wolfgang [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
REICHL, Herbert [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : LANGE, Stephan; (DE).
GALIUS, Veniamin; (DE).
FIEDLER, Stephan; (DE).
HANNEMANN, Monika; (DE).
SCHEELL, Wolfgang; (DE).
REICHL, Herbert; (DE)
Mandataire : OLGEMOELLER, Luitgard; Leonhard Olgemöller Fricke Postfach 10 09 57 80083 München (DE)
Données relatives à la priorité :
100 17 887.1 11.04.2000 DE
101 13 857.1 21.03.2001 DE
Titre (DE) VERFAHREN ZUR SELEKTIVEN, METALLBASIERTEN AKTIVIERUNG VON SUBSTRATOBERFLÄCHEN FÜR DIE NASSCHEMISCHE, AUSSENSTROMLOSE METALLABSCHEIDUNG UND MITTEL HIERFÜR
(EN) METHOD FOR THE SELECTIVE, METAL-BASED ACTIVATION OF SUBSTRATE SURFACES FOR THE WET-CHEMICAL METAL DEPOSITION WITHOUT EXTERNAL CURRENT AND A MEANS THEREFORE
(FR) PROCEDE D'ACTIVATION SELECTIVE A BASE METALLIQUE DE SURFACES DE SUBSTRATS POUR LE DEPOT METALLIQUE PAR VOIE CHIMIQUE HUMIDE SANS COURANT EXTERIEUR ET MOYEN CORRESPONDANT
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur selektiven, metallbasierten Aktivierung von Substratoberflächen für die naßchemische, außenstromlose Metallabscheidung, dadurch gekennzeichnet, daß die Substratoberfläche mit Aktivatormetall aktiviert wird, das als solches oder in Form einer Vorstufe mit Hilfe von Vesikeln selektiv an den zu aktivierenden Ort der Oberfläche transportiert wurde. Weiterhin betrifft sie eine Vesikelmischung, umfassend mit einer Aktivatormetall-Vorstufe gefüllte Vesikel sowie mit einem Reaktionspartner für die Aktivatormetall-Vorstufe gefüllte Vesikel, wobei der Reaktionspartner die Aktivatormetall-Vorstufe in Aktivatormetall umwandeln kann, sobald die Vesikelmembranen geöffnet werden, als solche oder in einem Suspensionsmittel suspendiert, die sich zur Verwendung in diesem Verfahren eignet.
(EN)The invention relates to a method for the selective metal-based activation of substrate surfaces for the wet-chemical metal deposition without external current. The inventive method is characterised in that the substrate surface is activated by means of an activator metal which, as such or in the form of a precursor, has been selectively transported to the location of the surface by means of vesicles, whereby said location has to be activated. The invention also relates to a vesicle mixture comprising vesicles that are filled with an activator metal precursor and to vesicles that are filled with a reaction partner for the activator metal precursor. The reaction partner can convert the activator metal precursor into activator metal as soon as the vesicle membranes are opened. Said vesicle mixture is present as such or suspended in a suspension agent and is suitable for use in said method.
(FR)L'invention concerne un procédé d'activation sélective à base métallique de surfaces de substrats pour le dépôt métallique par voie chimique humide sans courant extérieur. Le procédé selon l'invention est caractérisé en ce que la surface du substrat est activée avec un métal activateur transporté sélectivement en tant que tel ou sous la forme d'un précurseur vers la zone de la surface à activer au moyen de vésicules. L'invention concerne également un mélange de vésicules contenant une vésicule remplie d'un précurseur de métal activateur ainsi qu'une vésicule remplie d'un réactif destiné au précurseur de métal activateur, ce réactif pouvant transformer le précurseur de métal activateur en métal activateur dès que les membranes de vésicules sont ouvertes. Le mélange de vésicules selon l'invention peut se présenter en tant que tel ou dans un agent de suspension et peut être mis en oeuvre dans le procédé selon l'invention.
États désignés : JP, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)