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1. (WO2001077406) PROCEDE POUR DETERMINER LE DEGRE DE NETTOYAGE APPLIQUE A UN APPAREIL UTILISE DANS UNE OPERATION DE DEPOT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/077406    N° de la demande internationale :    PCT/US2001/010553
Date de publication : 18.10.2001 Date de dépôt international : 29.03.2001
CIB :
C23C 16/44 (2006.01)
Déposants : PHILIPS SEMICONDUCTORS, INC. [US/US]; 811 East Arques Avenue Sunnyvale, CA 94088 (US) (MC only).
KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V. [NL/NL]; Groenewoulseweg 1 NL-5621 BA Eindhoven (NL) (AT, BE, CH, CN, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, JP, KR, LU, NL, PT, SE, TR only)
Inventeurs : ANNAPRAGADA, Rao, Venkateswara; (US)
Mandataire : GALLENSON, Mavis, S.; Ladas & Parry 5670 Wilshire Boulevard Suite 2100 Los Angeles, CA 90036-5679 (US)
Données relatives à la priorité :
09/544,805 07.04.2000 US
Titre (EN) A METHOD OF DETERMINING THE END POINT OF A PLASMA CLEANING OPERATION
(FR) PROCEDE POUR DETERMINER LE DEGRE DE NETTOYAGE APPLIQUE A UN APPAREIL UTILISE DANS UNE OPERATION DE DEPOT
Abrégé : front page image
(EN)A method of determining an end point for a remote microwave plasma cleaning system. In one embodiment, the method comprises several steps. The first step is to expose an electrical device to a deposition operation. Next, the electrical device is exposed to a plasma cleaning operation. In the following step, a value for a performance characteristic of the electrical device is measured. In the last step, an amount of cleaning performed on the electrical device is calculated based on a relationship between a baseline value of the performance characteristic and on the measured value of the performance characteristic of the electrical device.
(FR)Procédé pour déterminer un point terminal d'un système de nettoyage distant au plasma hyperfréquence. Dans un mode de réalisation, le procédé comprend plusieurs stades. Au premier stade on expose un dispositif électrique à une opération de dépôt. On expose ensuite le dispositif électrique à une opération de nettoyage au plasma. Au stade suivant, on mesure une valeur pour une caractéristique de performance du dispositif électrique. Au stade final, un degré de nettoyage appliqué au dispositif électrique est calculé sur la base d'une relation entre une valeur de la caractéristique de performance et la valeur mesurée de la caractéristique de performance du dispositif électrique.
États désignés : CN, JP, KR.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)