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1. (WO2001077403) CIBLE DE PULVERISATION CATHODIQUE A BASE D'UN METAL OU D'UN ALLIAGE METALLIQUE, ET SON PROCEDE DE PRODUCTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/077403    N° de la demande internationale :    PCT/EP2001/003310
Date de publication : 18.10.2001 Date de dépôt international : 23.03.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    07.11.2001    
CIB :
C23C 14/34 (2006.01)
Déposants : UNAXIS MATERIALS AG [LI/LI]; FL-9496 Balzers (LI) (Tous Sauf US).
SCHLOTT, Martin [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
HEINDEL, Josef [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : SCHLOTT, Martin; (DE).
HEINDEL, Josef; (DE)
Mandataire : HERRMANN-TRENTEPOHL, W.; Forstenrieder Allee 59 81476 München (DE)
Données relatives à la priorité :
100 17 414.0 07.04.2000 DE
Titre (DE) SPUTTERTARGET AUF DER BASIS EINES METALLES ODER EINER METALLLEGIERUNG UND VERFAHREN ZU DESSEN HERSTELLUNG
(EN) METAL OR METAL ALLOY BASED SPUTTER TARGET AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF
(FR) CIBLE DE PULVERISATION CATHODIQUE A BASE D'UN METAL OU D'UN ALLIAGE METALLIQUE, ET SON PROCEDE DE PRODUCTION
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Sputtertarget auf der Basis eines Metalles oder einer Metalllegierung, vorzugsweise mit einer Schmelztemperatur unterhalb von 750 °C. Desweiteren betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung eines Sputtertargets auf der Basis eines Metalles oder einer Metalllegierung, vorzugsweise mit einer Schmelztemperatur unterhalb 750 °C.
(EN)The invention relates to metal or metal alloy based sputter target, preferably with a melting temperature of less than 750 °C. The invention also relates to a method for the production of a to metal or metal alloy based sputter target 750 °C,preferably with a melting temperature of less than 750 °C..
(FR)L'invention concerne une cible de pulvérisation cathodique à base d'un métal ou d'un alliage métallique, présentant de préférence une température de fusion inférieure à 750 °C. L'invention concerne en outre un procédé permettant de produire une cible de pulvérisation cathodique à base d'un métal ou d'un alliage métallique, présentant de préférence une température de fusion inférieure à 750 °C.
États désignés : JP, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)