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1. WO2001075949 - APPAREIL D'EXPOSITION MULTIFAISCEAU COMPRENANT UNE LENTILLE ELECTRONIQUE MULTIAXE, ET PROCEDE DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF A SEMI-CONDUCTEUR

Numéro de publication WO/2001/075949
Date de publication 11.10.2001
N° de la demande internationale PCT/JP2001/002283
Date du dépôt international 22.03.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 02.11.2001
CIB
H01J 37/317 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
30Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets
317pour modifier les propriétés des objets ou pour leur appliquer des revêtements en couche mince, p.ex. implantation d'ions
CPC
B82Y 10/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
82NANOTECHNOLOGY
YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
10Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
B82Y 40/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
82NANOTECHNOLOGY
YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
40Manufacture or treatment of nanostructures
H01J 2237/0635
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
06Sources
063Electron sources
06325Cold-cathode sources
06341Field emission
0635Multiple source, e.g. comb or array
H01J 2237/1205
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
10Lenses
12electrostatic
1205Microlenses
H01J 37/3177
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
317for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
3174Particle-beam lithography, e.g. electron beam lithography
3177Multi-beam, e.g. fly's eye, comb probe
Déposants
  • ADVANTEST CORPORATION [JP]/[JP]
Inventeurs
  • HAMAGUCHI, Shinichi
  • HARAGUCHI, Takeshi
  • YASUDA, Hiroshi
Mandataires
  • RYUKA, Akihiro
Données relatives à la priorité
2000-10261904.04.2000JP
2000-25188523.08.2000JP
2000-34265603.10.2000JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) MULTIBEAM EXPOSURE APPARATUS COMPRISING MULTIAXIS ELECTRON LENS AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
(FR) APPAREIL D'EXPOSITION MULTIFAISCEAU COMPRENANT UNE LENTILLE ELECTRONIQUE MULTIAXE, ET PROCEDE DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF A SEMI-CONDUCTEUR
Abrégé
(EN)
An electron beam exposure apparatus characterized by comprising electron guns for producing electron beam, voltage control means electrically connected to the electron guns and adapted to apply different voltages to the electron guns, and a multiaxis electron lens for independently focusing the electron beams. The voltage control means preferably applies different voltages to the electron guns according to the strength of magnetic field which is produced by the multiaxis electron lens and acts on the electron beams. The voltage control means may apply different voltages to the electron guns so that the focal points of the electron beams projected onto a wafer may be the same.
(FR)
L'invention concerne un appareil d'exposition à faisceau électronique, caractérisé en ce qu'il comprend des canons électroniques permettant de produire un faisceau électronique, des moyens de commande de tension reliés électriquement audits canons électroniques et conçus pour appliquer des tensions différentes à ces canons électroniques, et une lentille électronique multiaxe permettant de focaliser indépendamment les faisceaux électroniques. Les moyens de commande de tension appliquent, de préférence, des tensions différentes aux canons électroniques en fonction de la force d'un champ magnétique produit par la lentille électronique multi-axe, et agissent sur les faisceaux électroniques. Ils peuvent également appliquer des tensions différentes aux canons électroniques de sorte que les points focaux des faisceaux électroniques projetés sur une tranche peuvent être identiques.
Également publié en tant que
EP2001915700
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