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1. (WO2001075947) APPAREIL D'EXPOSITION MULTIFAISCEAU COMPRENANT UNE LENTILLE ELCTRONIQUE MULTI-AXIALE, UNE LENTILLE ELECTRONIQUE MULTI-AXIALE POUR LA FOCALISATION DE FAISCEAUX D'ELECTRONS, ET PROCEDE DE FABRICATION DE DISPOSITIF SEMI-CONDUCTEUR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/075947    N° de la demande internationale :    PCT/JP2001/002281
Date de publication : 11.10.2001 Date de dépôt international : 22.03.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    02.11.2001    
CIB :
H01J 37/317 (2006.01)
Déposants : ADVANTEST CORPORATION [JP/JP]; 1-32-1, Asahi-cho Nerima-ku, Tokyo 179-0071 (JP)
Inventeurs : HAMAGUCHI, Shinichi; (JP).
HARAGUCHI, Takeshi; (JP).
YASUDA, Hiroshi; (JP)
Mandataire : RYUKA, Akihiro; 6F Toshin Building 24-12, Shinjuku 1-chome Shinjuku-ku, Tokyo 160-0022 (JP)
Données relatives à la priorité :
2000-102619 04.04.2000 JP
2000-251885 23.08.2000 JP
2000-342660 03.10.2000 JP
Titre (EN) MULTIBEAM EXPOSURE APPARATUS COMPRISING MULTIAXIS ELECTRON LENS, MULTIAXIS ELECTRON LENS FOR FOCUSING ELECTRON BEAMS, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
(FR) APPAREIL D'EXPOSITION MULTIFAISCEAU COMPRENANT UNE LENTILLE ELCTRONIQUE MULTI-AXIALE, UNE LENTILLE ELECTRONIQUE MULTI-AXIALE POUR LA FOCALISATION DE FAISCEAUX D'ELECTRONS, ET PROCEDE DE FABRICATION DE DISPOSITIF SEMI-CONDUCTEUR
Abrégé : front page image
(EN)An electron beam exposure apparatus characterized by comprising a multiaxis electron lens having lens apertures for passing therethrough electron beams and independently focusing the electron beams, the lens apertures having different shapes. The multiaxis electron lens desirably has lens portion magnetic conductive parts having apertures and arranged generally parallel. At least one of the lens portion magnetic conductive parts preferably has a cut section in the periphery of the aperture. Further preferably at least one of the lens portion magnetic conductive parts has a cut section having a different size.
(FR)Appareil d'exposition à faisceau électronique caractérisé en ce qu'il comprend une lentille électronique multi-axiale ayant des ouvertures de lentille pour le passage au travers des faisceaux électroniques et, indépendamment, la focalisation des faisceaux électroniques, les ouvertures des lentilles présentant des formes différentes. La lentille électronique multi-axiale présente, de préférence, des pièces magnétiquement conductrices de portion de lentille, munies d'ouvertures et agencées généralement en parallèle. Au moins l'une desdites pièces magnétiquement conductrices de portion de lentille présente de préférence une section découpée dans la périphérie de l'ouverture. En outre, et de préférence, au moins l'une desdites pièces magnétiquement conductrices de portion de lentille présente une section découpée de dimension différente.
États désignés : JP, KR.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)