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1. (WO2001075189) NETTOYAGE AMELIORE D'UN TOIT EN SILICIUM D'UN SYSTEME DE TRAITEMENT AU PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2001/075189 N° de la demande internationale : PCT/US2001/010791
Date de publication : 11.10.2001 Date de dépôt international : 02.04.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 26.10.2001
CIB :
C23C 16/44 (2006.01) ,H01J 37/32 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC.[US/US]; P.O. Box 450A Santa Clara, CA 95052, US
Inventeurs : SUN, Jennifer, Y.; US
FANG, Ho, Tong; US
TAN, Samantha, S., H.; US
Mandataire : BERNADICOU, Michael, A. ; Blakely, Sokoloff, Taylor & Zafman LLP 7th floor 12400 Wilshire Boulevard Los Angeles, CA 90025, US
Données relatives à la priorité :
09/541,17903.04.2000US
Titre (EN) CLEANING OF A PLASMA PROCESSING SYSTEM SILICON ROOF
(FR) NETTOYAGE AMELIORE D'UN TOIT EN SILICIUM D'UN SYSTEME DE TRAITEMENT AU PLASMA
Abrégé :
(EN) An apparatus for cleaning a silicon roof of a plasma chamber by etching the roof substantially without damage to the silicon structure. The etching is followed by cleaning the roof, using deionized water for rinsing the roof and determining the amount of particulate matter in the deionized water used for rinsing the roof. This is followed by determining qualitatively how much particulate matter of at least a certain size is in the deionized water. If the amount of particulate matter in the water is below a predetermined baseline, the particulate matter that will be deposited on material, such as a silicon wafer, being processed in the chamber is greatly reduced. The stability of the plasma processing with time is improved, with the time between roof cleanings rising from about 200 hours to nearly 300 hours.
(FR) L'invention concerne un dispositif permettant de nettoyer le toit en silicium d'une chambre au plasma par mordançage du toit sans endommagement substantiel de la structure en silicium. Le mordançage est suivi d'une part, d'un nettoyage du toit au moyen d'eau déionisée de manière à rincer le toit et, d'autre part, de la détermination de la quantité de particules dans l'eau déionisée utilisée pour rincer le toit. Cette étape est suivie d'une étape consistant à déterminer qualitativement la quantité de particules contenue dans l'eau déionisée et présentant au moins une certaine taille. Si la quantité de particules contenue dans l'eau est inférieure à une ligne de base prédéterminée, les particules devant être déposées sur un matériau, tel qu'une plaquette, et qui sont soumise à un traitement dans la chambre susmentionnée sont considérablement réduites. La stabilité à long terme du traitement au plasma est améliorée. Les intervalles de temps entre les rinçages du toit étant compris entre 200 heures et 300 heures environ.
États désignés : JP, KR, SG
Office européen des brevets (OEB (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)