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1. (WO2001072618) PROCEDE ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE TRANCHES A SEMI-CONDUCTEURS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2001/072618 N° de la demande internationale : PCT/US2001/010509
Date de publication : 04.10.2001 Date de dépôt international : 29.03.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 16.10.2001
CIB :
C23C 16/458 (2006.01) ,C23C 16/54 (2006.01) ,H01L 21/00 (2006.01) ,H01L 21/677 (2006.01) ,H01L 21/687 (2006.01)
Déposants : LEBAR TECHNOLOGY, INC.[US/US]; 1168 Aster Avenue Suite M Sunnyvale, CA 94086, US
Inventeurs : LEBAR, Tony; US
LIE, Han, K.; US
RHEE, Hyop, S.; US
MCOMBER, Janice, I.; US
Mandataire : WRIGHT, Edward, S. ; Flehr Hohbach Test Albritton & Herbert LLP 4 Embarcadero Center Suite 3400 San Francisco, CA 94111-4187, US
Données relatives à la priorité :
60/193,06329.03.2000US
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR PROCESSING SEMICONDUCTOR WAFERS
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE TRANCHES A SEMI-CONDUCTEURS
Abrégé : front page image
(EN) Method and apparatus for processing wafers (18) in a vacuum chamber (12) in which a plurality of wafers are stored in a cassette (27) outside the chamber, wafers are transferred between the cassette and a staging station (16) inside the chamber with a transfer mechanism (29) located outside the chamber, and wafers are transferred between the staging station and a processing station (A-D) within the chamber with a transfer mechanism (17) located inside the chamber. In some embodiments, the staging station moves back and forth between the processing chamber and a load lock, with a closure connected to the staging station sealing off the processing chamber when the staging station is in the load lock and wafers are being transferred between the staging station and the cassette.
(FR) L'invention concerne un procédé et un dispositif de traitement de tranches (18) dans une chambre à vide (12). Une pluralité de tranches sont stockées dans une cartouche (27) à l'extérieur de la chambre. Ces tranches sont transférées entre la cartouche et une station intermédiaire (16) au moyen d'un mécanisme de transfert (29) situé à l'extérieur de ladite chambre. Elles sont alors transférées entre la station intermédiaire et une station de traitement (A-D) à l'intérieur de la chambre au moyen d'un mécanisme de transfert (17) situé à l'intérieur de la chambre. Dans certains modes de réalisation, la station intermédiaire se déplace en va-et-vient entre la chambre de traitement et un sas, une fermeture étant reliée à la station intermédiaire de manière à isoler la chambre de traitement lorsque cette station intermédiaire se trouve dans le sas, les tranches étant alors transférées entre ladite station intermédiaire et la cartouche.
États désignés : JP, KR
Office européen des brevets (OEB (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)